[发明专利]相似版图判断方法在审
| 申请号： | 201811396599.X | 申请日： | 2018-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN109460623A | 公开（公告）日： | 2019-03-12 |
| 发明（设计）人： | 吴青;陈翰;张辰明;孟鸿林 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50;G06K9/62 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 焦天雷 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 子区域 图形标识 版图区域 版图图形 分析 预设 矩阵 图形识别 版图几何中心 图形判断 准确率 | ||
1.一种相似版图判断方法，用于OPC工艺之前的相似版图分析，其特征在于，包括以下步骤：
1)以待分析版图几何中心点为起点向预设方向外扩展预设长度，形成待分析版图区域；
2)将待分析版图区域在预设方向分别平均分成n个子区域，形成n×n矩阵，n≥4；
3)将位于所述矩阵4个角落的子区域命名为非必要子区域；
4)对图形全部位于非必要子区域内的版图图形添加非必要图形标识；
5)将待分析版图区域内的其他版图图形添加必要图形标识；
6)若待分析版图中具有必要图形标识的版图图形一致，则判断待分析版图相似；否则，则判断待分析版图不相似。
2.如权利要求1所述的相似版图判断方法，其特征在于：所述预设方向是水平和垂直方向。
3.如权利要求1所述的相似版图判断方法，其特征在于：所述预设长度是2倍Pitch，Pitch＝LW+LS，LW是图形设计线宽，LS是图形设计线间距。
4.如权利要求1所述的相似版图判断方法，其特征在于：所述预设长度大于2倍Pitch，Pitch＝LW+LS，LW是图形设计线宽，LS是图形设计线间距。
5.如权利要求4所述的相似版图判断方法，其特征在于：执行步骤2)时，以1倍Pitch作为待分析版图区域的子区域均分长度。
6.如权利要求1所述的相似版图判断方法，其特征在于：所述非必要图形标识和必要图形标识是颜色标识，分别用不同的颜色表示。
7.如权利要求1所述的相似版图判断方法，其特征在于：所述非必要图形标识采用灰色表示，必要图形标识采用绿色表示。
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