[发明专利]相似版图判断方法

说明书

本发明公开了一种相似版图判断方法，包括：以待分析版图几何中心点为起点向预设方向外扩展预设长度，形成待分析版图区域；将待分析版图区域在预设方向分别平均分成n个子区域，形成n×n矩阵，n≥4；将位于所述矩阵4个角落的子区域命名为非必要子区域；对图形全部位于非必要子区域内的版图图形添加非必要图形标识；将待分析版图区域内的其他版图图形添加必要图形标识；若待分析版图中具有必要图形标识的版图图形一致，则判断待分析版图相似；否则，则判断待分析版图不相似。本发明通过识别必要子区域的必要图形标识能够避免非必要子区域中非必要图形对相似图形判断的影响，进而提高相似图形识别准确率，并提高相似图形识别效率。

技术领域

本发明涉及集成电路领域，特别是涉及一种，用于OPC工艺之前的相似版图判断方法。

背景技术

在先进的光刻工艺中，因曝光图形尺寸的缩小，简单的全局光学临近修正(OPC)也逐渐遇到各种问题。针对特殊图形做不同的OPC成为解决这些问题的关键，而这也往往增加了OPC的出版时间。因此，对OPC前的版图分析成为行业习惯。这种版图分析就是用标准图形库匹配版图，进而检查版图上是否出现已知的图形库图形。高效的图形比对工具可以用较小的特殊图形库检查出大量的图形，而低效的图形比对工具就需要巨大的图形库来检查相同数量的图形。

分析低效的图形比对工具的图形库，会发现里面有大量相似的图形，但又不完全一样(某些边，或者某些图形边缘Polygon不一样)。也就是两张相似图形，仅有一条边缘Polygon的差异。如何高效的认为该两张图形是相似图形成为关键技术。现有技术中判断相似图形的有两种常用方法：1)给定Polygon的边一个移动范围，也就是只要边在一定范围内，就认为是相似图形。2)将图形的一定范围内点阵化，一定范围内的点阵匹配值达到一定值就认为是相似图形。

现有技术的相似图形识别方法容易产生误判，比如遗漏相似图形。并且，识别判断效率不高。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种用于OPC工艺之前能提高相似版图分辨效率的相似版图判断方法。

为解决上述技术问题，本发明提供一种相似版图判断方法，用于OPC工艺之前的相似版图分析，包括以下步骤：

1)以待分析版图几何中心点为起点向预设方向外扩展预设长度，形成待分析版图区域；

2)将待分析版图区域在预设方向分别平均分成n个子区域，形成n×n矩阵，n≥4；

3)将位于所述矩阵4个角落的子区域命名为非必要子区域；

4)对图形全部位于非必要子区域内的版图图形添加非必要图形标识；

5)将待分析版图区域内的其他版图图形添加必要图形标识；

6)若待分析版图中具有必要图形标识的版图图形一致，则判断待分析版图相似；否则，则判断待分析版图不相似。

其中，所述预设方向是水平和垂直方向。

其中，所述预设长度是2倍Pitch，Pitch＝LW+LS，LW是图形设计线宽，LS是图形设计线间距。

其中，所述预设长度大于2倍Pitch，Pitch＝LW+LS，LW是图形设计线宽，LS是图形设计线间距。

当预设长度大于2倍Pitch，执行步骤2)时，以1倍Pitch作为待分析版图区域的子区域均分长度。

其中，所述非必要图形标识和必要图形标识是颜色标识，分别用不同的颜色表示。

其中，所述非必要图形标识采用灰色表示，必要图形标识采用绿色表示。