[发明专利]一种用于视觉检测领域的光学检测装置与检测方法

权利要求书

1.一种用于视觉检测领域的光学检测方法，其特征在于，具体包括如下步骤：

步骤一：暗场检测装置内的摄像头a拍摄出镜面或高反光工件的所在区域的暗场成像，摄像头a拍摄多张照片，叠加出全工件的暗场像，从而筛选出暗场成像下的不良工件；

步骤二：明场检测装置内的摄像头b拍摄出工件所在区域的明场成像，摄像头b拍摄多张照片，叠加出全工件的明场像，从而筛选出明场成像下的不良工件；

步骤一的具体实施方式为：

1）暗场检测装置前配暗场托盘，工件放在暗场托盘上，所述暗场托盘置于传送带上进入暗场检测装置，托盘与工件接触面为吸光材料，使异型镜面或高反光工件的侧壁实现暗场成像；

2）暗场检测装置的壳体a内表面吸光；

3）暗场检测装置内部顶端装有多个摄像头a，全面拍摄工件；

4）暗场检测装置内包含矩阵线光源，全方位照亮工件，且对于镜面或者高反光工件的检测过程中，摄像头a成像中工件倒映到光源的面积很小，大部分区域倒映到吸光材料上，形成暗场成像，伴随传送带传送工件，摄像头a拍摄多张照片，叠加出全工件的暗场像，从而筛选出暗场成像下的不良工件；

步骤二的具体实施方式为：

1）明场检测装置前配明场托盘，工件放在明场托盘上，所述明场托盘置于传送带上进入明场检测装置，明场托盘与工件接触面为反光材料，使异型镜面或高反光工件的侧壁实现明场成像；

2）明场检测装置的壳体b内表面反光；

3）明场检测装置内部顶端装有多个摄像头b，全面拍摄工件；

4） 明场检测装置内包含顶匀光光源和侧匀光光源，全方位照亮工件，且对于镜面或者高反光工件的检测过程中，摄像头b成像中工件倒映到光源或亮面的面积很大，只有倒映到摄像头的部位无法呈现明场成像，伴随传送带传送工件，摄像头拍摄多张照片，叠加出全工件的明场像，从而筛选出明场成像下的不良工件；

上述方法是在光学检测装置中实施的，所述光学检测装置包括用于暗场成像的暗场检测装置和用于明场成像的明场检测装置；暗场检测装置包括壳体a，在壳体a中设有矩阵线光源，壳体a顶部安装有摄像头a；明场检测装置包括壳体b，在壳体b中设有顶匀光光源、侧匀光光源，壳体b顶部安装有摄像头b。

2.根据权利要求1所述一种用于视觉检测领域的光学检测方法，其特征在于，本申请还包括暗场托盘、明场托盘，所述暗场托盘位于暗场检测装置前方，所述明场托盘位于明场检测装置前方；所述暗场检测装置、明场检测装置固定在传送带上方，所述暗场托盘、明场托盘位于传送带上；所述暗场托盘、明场托盘均用于放置被检测工件。

3.根据权利要求1所述一种用于视觉检测领域的光学检测方法，其特征在于，在壳体a中设有调光电源，该调光电源与矩阵线光源相连；在壳体b中也设有调光电源，该调光电源分别与顶匀光光源、侧匀光光源相连，调光电源输出电流可调。

4.根据权利要求1所述一种用于视觉检测领域的光学检测方法，其特征在于，所述壳体a的顶板和侧板内壁均喷涂或覆盖吸光材料；所述壳体b的顶板和侧板内壁均喷涂或覆盖反光材料。

5.根据权利要求2所述一种用于视觉检测领域的光学检测方法，其特征在于，所述暗场托盘顶部与工件接触的表面为吸光表面；所述明场托盘顶部与工件接触的表面为高反光表面。

6.根据权利要求5所述一种用于视觉检测领域的光学检测方法，其特征在于，吸光表面能通过喷涂吸光涂料或垫吸光垫片的形式实现；高反光表面能通过喷涂反光涂料或垫反光垫片的形式实现。

7.根据权利要求1所述一种用于视觉检测领域的光学检测方法，其特征在于，暗场检测装置和明场检测装置中配有调光电源，根据工件的情况调整光源功率。