[发明专利]一种配向膜制备方法

说明书

本发明实施例公开了一种配向膜制备方法，该方法包括在衬底上涂覆光刻胶形成光刻胶层，采用激光束照射光刻胶层，并控制激光束的束斑沿预设方向扫描，以使光刻胶层的曝光位置呈线条阵列，对光刻胶层进行显影，形成配向膜沟槽阵列结构，其中，激光束包括第一激光束和第二激光束，第一激光束的束斑与第二激光束的束斑聚焦于同一焦点。本发明实施例提供的技术方案可以提高配向膜良品率，降低配向膜制备成本。

技术领域

本发明实施例涉及液晶配向技术领域，尤其涉及一种配向膜制备方法。

背景技术

液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)的工作原理是将液晶置于两片导电玻璃之间，靠两个电极间电场的驱动来控制液晶分子的转动方向，从而达到控制每个像素点偏振光出射与否。其中，配向膜是LCD中一重要膜层，通常，液晶被置于两个具有沟槽的配向膜之间，且该两个配向膜的沟槽的延伸方向相互垂直，液晶分子在沟槽的作用下会呈现一种90°扭转的排列方式，阻挡光线排列，当对液晶施加一个电压时，液晶在电压的作用下呈垂直排列，使光线顺利出射。

现有技术中，通常通过对聚酰亚胺薄膜(Polyimide Film，PI膜)进行摩擦制程，使其产生沿一定方向排列的沟槽，以获得配向膜。

但是，通过摩擦PI膜获得配向膜的方法具有诸多问题。一方面，摩擦布的布毛在对PI膜的进行摩擦的过程中会积累静电和产生微小的尘粒，造成良品率下降，另一方面，PI膜材料价格昂贵，且用于对PI膜进行摩擦的设备价格昂贵，使得配向膜制备成本较高。

发明内容

本发明提供一种配向膜制备方法，以实现提高配向膜良品率，降低配向膜制备成本。

第一方面，本发明实施例提供了一种配向膜制备方法，该方法包括在衬底上涂覆光刻胶形成光刻胶层；

采用激光束照射光刻胶层，并控制激光束的束斑沿预设方向扫描，以使光刻胶层的曝光位置呈线条阵列；

对光刻胶层进行显影，形成配向膜沟槽阵列结构；

其中，激光束包括第一激光束和第二激光束，第一激光束的束斑与第二激光束的束斑聚焦于同一焦点。

可选的，光刻胶为负性光刻胶或正性光刻胶。

可选的，光刻胶层的厚度小于20nm。

可选的，若光刻胶为负性光刻胶，相邻线条之间的间距为80nm-100nm。

可选的，若光刻胶为正性光刻胶，线条阵列中光刻胶层的曝光位置对应的每条线条沿线条阵列中线条的排列方向的长度为80nm-100nm。

可选的，通过调节激光束的束斑的扫描速度和/或激光束的曝光能量调节线条的宽度；其中，线条的宽度是指线条阵列中光刻胶层的曝光位置对应的每条线条沿线条阵列中线条的排列方向的长度。

可选的，第一激光束的波长以及第二激光束的波长均在780nm-1000nm范围内。

可选的，第一激光束的平均功率以及第二激光束的平均功率均在40uw-40mw范围内。

可选的，第一激光束的脉冲宽度和第二激光束的脉冲宽度均在纳秒至飞秒范围内。

可选的，第一激光束的重复频率以及第二激光束的重复频率在1HZ-300MHZ范围内。

可选的，光刻胶包括自由基聚合型光刻胶。

本发明实施例提供的一种配向膜制备方法，通过利用激光双光子技术在光刻胶层上形成线条阵列结构，再经过显影在光刻胶层上形成配向膜沟槽阵列，解决现有技术中通过对PI膜进行摩擦来制备配向膜带来的良品率下降以及制备成本高昂的问题，实现提高配向膜良品率，降低配向膜制备成本的效果。

附图说明