[发明专利]抗核加固D锁存器在审
申请号: | 201811417831.3 | 申请日: | 2018-11-26 |
公开(公告)号: | CN109547007A | 公开(公告)日: | 2019-03-29 |
发明(设计)人: | 郭靖;朱磊 | 申请(专利权)人: | 中北大学;齐齐哈尔大学 |
主分类号: | H03K19/003 | 分类号: | H03K19/003;H03K19/00 |
代理公司: | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 | 代理人: | 毕雅凤 |
地址: | 030051 山西省*** | 国省代码: | 山西;14 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 翻转 双节点 单节点 锁存器 功耗 集成电路芯片 高辐射环境 辐照 航天航空 输出端口 数据传输 应用提供 硬件开销 传输门 反相器 体积小 集成电路 核电站 延迟 传输 | ||
抗核加固D锁存器,属于集成电路可靠性中的抗核加固领域。解决了现有抗辐照D锁存器需要较多硬件、功耗高、延迟时间长以及无法对已翻转的双节点进行容错的问题。本发明包括两个反相器I1、I2,28个NMOS晶体管N1至N28,以及12个PMOS晶体管P1至P12,所用器件少,体积小,结构简单,由于所用器件少,从而降低整个锁存器的功耗及拥有较低的硬件开销。锁存器输入端的信号只通过一个传输门就可以传输到输出端口,数据传输时间短,还能够实现对任意单节点和双节点翻转的容错,从而实现抗单节点和双节点翻转的容错保护。本发明可以为高辐射环境(如航天航空以及地面核电站等)中集成电路芯片的应用提供保护。
技术领域
本发明属于集成电路可靠性中的抗核加固领域。
背景技术
数字D锁存器在时序数字电路中具有很重要的作用,其锁存的信息可以支持供下一级电路使用。但是,如果保存信息的节点受到外界辐射粒子的干扰发生改变,将会影响后续电路的功能,从而导致整个电路系统发生错误。
现有的抗辐照D锁存器可实现抵抗外界辐射粒子的干扰,但是只是简单的复制多个单元,采用三模冗余的方式甚至四模冗余的方式来进行加固,虽然可实现抗双节点翻转,但存在抗双节点翻转的能力差,甚至无法对已翻转的双节点进行容错,另一方面现有的抗辐照D锁存器需要较多硬件(高达102个晶体管)、功耗高、延迟时间长的缺点,因此,以上问题亟需解决。
发明内容
本发明是为了解决现有抗辐照D锁存器需要较多硬件、功耗高、延迟时间长以及无法对已翻转的双节点进行容错的问题,从而提供了一种新型的抗核加固D锁存器。
抗核加固D锁存器,包括两个反相器I1、I2,28个NMOS晶体管N1至N28,以及12个PMOS晶体管P1至P12;
晶体管N16的漏极、晶体管N17的漏极、晶体管N18的漏极、晶体管N19的漏极、晶体管N24的漏极、晶体管P12的源极和反相器I1的输入端同时连接后,作为锁存器数据信号D的输入端;反相器I1的输出端与晶体管N20的漏极连接;
晶体管N24的源极和晶体管P12的漏极同时连接后,作为锁存器输出信号Q的输出端;晶体管N24的栅极和反相器I2的输入端均作为锁存器时钟信号CLK的输入端;晶体管P12的栅极、反相器I2的输出端和晶体管N1的栅极同时连接;
晶体管N16至N19的栅极均作为锁存器时钟信号CLK的输入端,晶体管N16至N19的源极分别作为节点X1、X3、X5、X7;
晶体管N20至N23的漏极同时连接,晶体管N20至N23的栅极均作为锁存器时钟信号CLK的输入端;晶体管N20至N23的源极分别作为节点X2、X4、X6、X8;
晶体管P4至P7的源极同时接供电电源,晶体管N8至N11的源极同时接电源地;
晶体管P4的栅极作为节点X4、晶体管N4的栅极作为节点X5、晶体管P5的栅极作为节点X1、晶体管N5的栅极作为节点X6、晶体管P6的栅极作为节点X2、晶体管N6的栅极作为节点X7、晶体管P7的栅极作为节点X3、晶体管N7的栅极作为节点X8;
晶体管P4的漏极与晶体管N4的漏极连接,晶体管N4的源极、晶体管N8的漏极和晶体管N11的栅极同时连接后,作为节点X1;
晶体管P5的漏极与晶体管N5的漏极连接,晶体管N5的源极、晶体管N9的漏极和晶体管N8的栅极同时连接后,作为节点X2;
晶体管P6的漏极与晶体管N6的漏极连接,晶体管N6的源极、晶体管N10的漏极和晶体管N9的栅极同时连接后,作为节点X3;
晶体管P7的漏极与晶体管N7的漏极连接,晶体管N7的源极、晶体管N11的漏极和晶体管N10的栅极同时连接后,作为节点X4;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中北大学;齐齐哈尔大学,未经中北大学;齐齐哈尔大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811417831.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。