[发明专利]一种量子点发光二极管及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201811419198.1 申请日: 2018-11-26
公开(公告)号: CN111223999A 公开(公告)日: 2020-06-02
发明(设计)人: 梁柱荣;曹蔚然;钱磊 申请(专利权)人: TCL集团股份有限公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/52;H01L51/56
代理公司: 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 代理人: 王永文;刘文求
地址: 516006 广东省*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 量子 发光二极管 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种量子点发光二极管,包括阳极、量子点发光层及阴极,所述量子点发光层设置在所述阳极与所述阴极之间,其特征在于,还包括设置于所述阳极与所述量子点发光层之间的第一修饰层,所述第一修饰层包括PAMAM,所述PAMAM中掺杂有过渡金属阳离子。

2.根据权利要求1所述的量子点发光二极管,其特征在于,所述第一修饰层由过渡金属阳离子掺杂的PAMAM组成。

3.根据权利要求1或2所述的量子点发光二极管,其特征在于,所述PAMAM中还掺杂有阴离子。

4.根据权利要求1所述的量子点发光二极管,其特征在于,还包括设置于所述阴极与所述量子点发光层之间的第二修饰层,所述第二修饰层包括PAMAM。

5.根据权利要求1所述的量子点发光二极管,其特征在于,所述过渡金属阳离子与所述第一修饰层中的PAMAM的摩尔比为0.01~720。

6.根据权利要求1所述的量子点发光二极管,其特征在于,所述过渡金属阳离子中的过渡金属包括Cu、Ni、Zn、Co、Fe、Mn、Cr、V、Ti、Sc、Y、Zr、Nb、Mo、Tc、Ru、Rh、Pb、Ag、Cd、Hf、Ta、W、Re、Os、Ir、Pt、Au和Hg中的一种或多种。

7.根据权利要求3所述的量子点发光二极管,其特征在于,所述阴离子包括Cl-、CO3-、S2-、SO42-、SO32-、MnO42-、MnO4-、PO43-、NO3-、NO2-、ClO3-、ClO-、ClO2-、ClO4-、CN-、AlO2-、AlO33-、C2O42-、FeO42-、Cr2O72-、CrO42-、SeO42-中的一种或多种。

8.根据权利要求1所述的量子点发光二极管,其特征在于,所述阳极材料包括金属材料、碳材料、金属氧化物和空穴注入材料中的一种或多种;和/或

所述阴极材料包括金属材料、碳材料和金属氧化物中的一种或多种。

9.根据权利要求1所述的量子点发光二极管,其特征在于,所述第一修饰层的厚度为2~110nm。

10.根据权利要求4所述的量子点发光二极管,其特征在于,所述第二修饰层的厚度为5~96nm。

11.一种量子点发光二极管,包括阳极、量子点发光层及阴极,所述量子点发光层设置在所述阳极与所述阴极之间,其特征在于,还包括设置于所述阴极与所述量子点发光层之间的第二修饰层,所述第二修饰层包括PAMAM。

12.一种量子点发光二极管的制备方法,其特征在于,包括步骤:

提供阳极;

在所述阳极上制备第一修饰层,所述第一修饰层包括PAMAM,所述PAMAM中掺杂有过渡金属阳离子;

在所述第一修饰层上制备量子点发光层;

在所述量子点发光层上制备阴极。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TCL集团股份有限公司,未经TCL集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811419198.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top