[发明专利]一种量子点发光二极管及其制备方法在审
申请号: | 201811419198.1 | 申请日: | 2018-11-26 |
公开(公告)号: | CN111223999A | 公开(公告)日: | 2020-06-02 |
发明(设计)人: | 梁柱荣;曹蔚然;钱磊 | 申请(专利权)人: | TCL集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L51/50 | 分类号: | H01L51/50;H01L51/52;H01L51/56 |
代理公司: | 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 | 代理人: | 王永文;刘文求 |
地址: | 516006 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 量子 发光二极管 及其 制备 方法 | ||
1.一种量子点发光二极管,包括阳极、量子点发光层及阴极,所述量子点发光层设置在所述阳极与所述阴极之间,其特征在于,还包括设置于所述阳极与所述量子点发光层之间的第一修饰层,所述第一修饰层包括PAMAM,所述PAMAM中掺杂有过渡金属阳离子。
2.根据权利要求1所述的量子点发光二极管,其特征在于,所述第一修饰层由过渡金属阳离子掺杂的PAMAM组成。
3.根据权利要求1或2所述的量子点发光二极管,其特征在于,所述PAMAM中还掺杂有阴离子。
4.根据权利要求1所述的量子点发光二极管,其特征在于,还包括设置于所述阴极与所述量子点发光层之间的第二修饰层,所述第二修饰层包括PAMAM。
5.根据权利要求1所述的量子点发光二极管,其特征在于,所述过渡金属阳离子与所述第一修饰层中的PAMAM的摩尔比为0.01~720。
6.根据权利要求1所述的量子点发光二极管,其特征在于,所述过渡金属阳离子中的过渡金属包括Cu、Ni、Zn、Co、Fe、Mn、Cr、V、Ti、Sc、Y、Zr、Nb、Mo、Tc、Ru、Rh、Pb、Ag、Cd、Hf、Ta、W、Re、Os、Ir、Pt、Au和Hg中的一种或多种。
7.根据权利要求3所述的量子点发光二极管,其特征在于,所述阴离子包括Cl-、CO3-、S2-、SO42-、SO32-、MnO42-、MnO4-、PO43-、NO3-、NO2-、ClO3-、ClO-、ClO2-、ClO4-、CN-、AlO2-、AlO33-、C2O42-、FeO42-、Cr2O72-、CrO42-、SeO42-中的一种或多种。
8.根据权利要求1所述的量子点发光二极管,其特征在于,所述阳极材料包括金属材料、碳材料、金属氧化物和空穴注入材料中的一种或多种;和/或
所述阴极材料包括金属材料、碳材料和金属氧化物中的一种或多种。
9.根据权利要求1所述的量子点发光二极管,其特征在于,所述第一修饰层的厚度为2~110nm。
10.根据权利要求4所述的量子点发光二极管,其特征在于,所述第二修饰层的厚度为5~96nm。
11.一种量子点发光二极管,包括阳极、量子点发光层及阴极,所述量子点发光层设置在所述阳极与所述阴极之间,其特征在于,还包括设置于所述阴极与所述量子点发光层之间的第二修饰层,所述第二修饰层包括PAMAM。
12.一种量子点发光二极管的制备方法,其特征在于,包括步骤:
提供阳极;
在所述阳极上制备第一修饰层,所述第一修饰层包括PAMAM,所述PAMAM中掺杂有过渡金属阳离子;
在所述第一修饰层上制备量子点发光层;
在所述量子点发光层上制备阴极。
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