[发明专利]化学水浴沉积系统及其使用方法

权利要求书

1.一种化学水浴沉积系统，其特征在于，包括：

沉积装置(210)，用于对基板(100)表面进行化学水浴沉积，所述沉积装置(210)内盛放化学试剂；

抓取装置(220)，用于抓取所述基板(100)，并将所述基板(100)放置于所述沉积装置(210)中的化学试剂中；

缓冲装置(230)，设置于所述沉积装置(210)底部，用于缓冲所述基板(100)落入所述沉积装置(210)时对所述沉积装置(210)底部的冲击。

2.如权利要求1所述的化学水浴沉积系统，其特征在于，还包括：

距离检测仪(223)，所述距离检测仪(223)用于监测所述基板(100)顶端与所述化学试剂液面之间的距离a；

控制装置(224)，与所述距离检测仪(223)电连接，用于根据所述距离a与预设的所述基板(100)顶端与化学试剂液面之间的安全距离b之间的差距，控制抓取装置(220)的断开与否。

3.如权利要求1所述的化学水浴沉积系统，其特征在于，所述抓取装置(220)包括两个间隔设置的夹爪组件(221)，可同时夹取两个所述基板(100)，并使两个所述基板(100)间隔设置。

4.如权利要求3所述的化学水浴沉积系统，其特征在于，所述沉积装置(210)包括四个侧壁(212)围设成的长方体结构，其中平行于基板(100)长度方向的两个所述侧壁(212)之间的距离大于两个所述基板(100)厚度之和，垂直于所述基板(100)长度方向的两个所述侧壁(212)之间的距离大于所述基板(100)的宽度。

5.如权利要求4所述的化学水浴沉积系统，其特征在于，垂直于所述基板(100)长度方向的两个侧壁(212)设置有用于固定所述基板(100)的固定部(213)。

6.如权利要求4所述的化学水浴沉积系统，其特征在于，包括两个所述缓冲装置(230)，分别设置于靠近于所述沉积装置(210)的垂直于所述基板(100)长度方向的两个侧壁(212)的底部区域。

7.如权利要求6所述的化学水浴沉积系统，其特征在于，所述缓冲装置(230)包括：

缓冲垫(231)，所述缓冲垫(231)包括高分子聚氨酯材料、橡胶或者石墨烯材料；

防摩擦层(232)，设置于所述缓冲垫(231)表面。

8.如权利要求1所述的化学水浴沉积系统，其特征在于，所述沉积装置(210)的底部到所述沉积装置(210)顶部的距离d1小于所述基板(100)放置于所述缓冲装置(230)时所述沉积装置(210)的底部到所述基板(100)顶部的距离d2，且d＝d2-d1，d为3～10cm。

9.一种化学水浴沉积方法，适用于权利要求1-8任一项所述的化学水浴沉积系统，其特征在于，包括：

S10，在所述沉积装置(210)中盛入混合均匀的化学试剂；

S20，通过所述抓取装置(220)抓取所述基板(100)的顶部向下移动，当所述抓取装置(220)接近所述化学试剂液面时，控制所述抓取装置(220)使得所述抓取装置(220)与所述基板(100)分离，所述基板(100)在重力作用下落于所述缓冲装置(230)的表面，所述基板(100)稳定后所述基板(100)的顶部露出在所述化学试剂液面以上。

10.如权利要求9所述的化学水浴沉积方法，其特征在于，在所述步骤S20后还包括：

S30，所述基板(100)在所述沉积装置(210)中沉积完毕后，将所述沉积装置(210)中的化学试剂排出；

S40，将所述基板(100)从所述沉积装置(210)中取出。