[发明专利]化学水浴沉积系统及其使用方法

说明书

本申请涉及一种化学水浴沉积系统及其使用方法。所述化学水浴沉积系统包括沉积装置、抓取装置和缓冲装置。所述沉积装置用于盛放化学试剂。所述抓取装置用于抓取运输基板，并将所述基板放置于所述沉积装置中的化学试剂中。所述缓冲装置设置于所述沉积装置。所述缓冲装置用于缓冲在所述沉积装置放入基板时所述基板对沉积装置底部的冲击力。通过先在所述沉积装置中盛有的混合均匀的化学试剂，可以使所述化学试剂在所述基板表面的沉积过程更为均匀。

技术领域

本申请涉及化学水浴沉积领域，特别是涉及化学水浴沉积系统及其使用方法。

背景技术

在产业化的CIGS的组件制造过程中，缓冲层通常是采用是硫化镉，制作所述缓冲层时，通常采用化学水浴法沉积所述硫化镉材料。化学水浴沉积法制备硫化镉通常包括水平浸泡法与竖直浸泡法，其中竖直浸泡法具有单面成膜性能好，膜层均匀等，若采用竖直浸泡法沉积硫化镉膜层，则需要使用天车机械夹爪将基板夹取，投入反应槽或从反应槽中取出。

根据现有技术，由于天车夹爪的耐碱性较差，无法与化学液接触，因此通常在化学液加入之前，需要提前将待沉积基板投放至反应槽。但是化学液加入反应槽中的时间比较长，基板不同部位接触到化学液的时间有一定差别。同时化学液加入时并不均匀，这都会导致基板沉积不均匀。

发明内容

基于此，有必要针对基板沉积不均匀问题，提供一种化学水浴沉积系统及其使用方法。

一种化学水浴沉积系统，其特征在于，包括：

沉积装置，用于对基板表面进行化学水浴沉积，所述沉积装置内盛放化学试剂；

抓取装置，用于抓取所述基板，并将所述基板放置于所述沉积装置中的化学试剂中；

缓冲装置，设置于所述沉积装置底部，用于缓冲所述基板落入所述沉积装置时对所述沉积装置底部的冲击。

在一个实施例中，还包括：

距离检测仪，所述距离检测仪用于监测所述基板顶端与所述化学试剂液面之间的距离a；

控制装置，与所述距离检测仪电连接，用于根据所述距离a与预设的所述基板顶端与化学试剂液面之间的安全距离b之间的差距，控制抓取装置的断开与否。

在一个实施例中，所述抓取装置包括两个间隔设置的夹爪组件，可同时夹取两个所述基板，并使两个所述基板间隔设置。

在一个实施例中，所述沉积装置包括四个侧壁围设成的长方体结构，其中平行于基板长度方向的两个所述侧壁之间的距离大于两个所述基板厚度之和，垂直于所述基板长度方向的两个所述侧壁之间的距离大于所述基板的宽度。

在一个实施例中，垂直于所述基板长度方向的两个侧壁设置有用于固定所述基板的固定部。

在一个实施例中，包括两个所述缓冲装置，分别设置于靠近于所述沉积装置的垂直于所述基板长度方向的两个侧壁的底部区域。

在一个实施例中，所述缓冲装置包括：

缓冲垫，所述缓冲垫包括高分子聚氨酯材料、橡胶或者石墨烯材料；

防摩擦层，设置于所述缓冲垫表面。

在一个实施例中，所述沉积装置的底部到所述沉积装置顶部的距离d1小于所述基板放置于所述缓冲装置时所述沉积装置的底部到所述基板顶部的距离d2，且d＝d2-d1，d为3～10cm。

一种化学水浴沉积方法，适用于所述的化学水浴沉积系统，包括：

S10，在所述沉积装置中盛入混合均匀的化学试剂；