[发明专利]一种模拟倒装芯片底部填充工艺过程中边缘效应的方法在审
申请号: | 201811429397.0 | 申请日: | 2018-11-27 |
公开(公告)号: | CN109558671A | 公开(公告)日: | 2019-04-02 |
发明(设计)人: | 王彦;朱文辉;王康伦 | 申请(专利权)人: | 中南大学 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50 |
代理公司: | 长沙轩荣专利代理有限公司 43235 | 代理人: | 叶碧莲 |
地址: | 410000 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 边缘效应 倒装芯片 边界条件 底部填充 工艺过程 建模 几何模型 设置材料 数值模拟 外围区域 选定区域 侧边处 无焊点 流体 预测 | ||
1.一种模拟倒装芯片底部填充工艺过程中边缘效应的方法,其特征在于,所述方法包括设置材料属性,对倒装芯片的选定区域进行建模,建立数值模拟的几何模型以及边界条件,采用边界条件模拟边缘效应,边界条件设置为:如果y大于L,则输出Patm-△p,如果y小于等于L,则输出Patm,其中Patm为标准大气压,L为侧边边界上的流体前沿位置,△p为流体的流动由进口和流体界面处的压差。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,Patm的值为(10000~11000)Pa,△p的值为(800~900)Pa。
3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述边界条件计算公式为:
其中,p为动态压力,L为侧边边界上的流体前沿位置,l为一常量,△p为流体的流动由进口和流体界面处的压差,Ω为侧边界,h为芯片和基板之间间隙的高度,φ为水平集函数。
4.如权利要求1或3任一项所述的方法,其特征在于,所述△p为
其中,σ为填充胶与空气的表面张力系数,θ为填充胶在固体表面的接触角,h为芯片和基板的之间间隙的高度。
5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述填充胶属性具体包括填充胶的密度设置为(1500~2000)kg/m3,表面张力为(0.02~0.03)N/m,填充胶在固体壁面上的接触角为(20~30)°。
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