[发明专利]一种高折射率光学镀膜材料及制备方法、光学增透膜在审
| 申请号： | 201811431803.7 | 申请日： | 2018-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN109503149A | 公开（公告）日： | 2019-03-22 |
| 发明（设计）人： | 秦海波 | 申请（专利权）人： | 北京富兴凯永兴光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C04B35/46 | 分类号： | C04B35/46 |
| 代理公司： | 北京市商泰律师事务所 11255 | 代理人： | 黄晓军 |
| 地址： | 102629 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 三氧化二铝 氧化钛 光学镀膜材料 制备 光学增透膜 高折射率 增透膜 划痕 氧化钛膜层 氧化钛原料 薄膜结构 二元复合 二元结构 复合结构 氧气释放 斑点 镀制 共烧 膜层 | ||
1.一种光学镀膜材料，其特征在于，所述材料为氧化钛-三氧化二铝二元复合结构。
2.根据权利要求1所述的光学镀膜材料，其特征在于，所述氧化钛包括：二氧化钛、七氧化四钛、五氧化三钛、三氧化二钛、一氧化钛。
3.根据权利要求1所述的光学镀膜材料，其特征在于，所述光学镀膜材料中氧化钛-三氧化二铝二元复合结构中的重量比为氧化钛:三氧化二铝＝(75～95):(25～5)。
4.一种光学镀膜材料的制备方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：
步骤S1，称取预定重量比的二氧化钛粉末和三氧化二铝粉末；
步骤S2，将所述二氧化钛粉末和三氧化二铝粉末混合均匀后，进行造粒；
步骤S3，将造料后得到的微颗粒/微片/微块放入马弗炉中在1100～1250℃进行预烧结，并保温3～5小时，随炉冷却后得到预烧微颗粒/微片/微块；
步骤S4，将所述预烧微颗粒/微片/微块放入真空炉中在1400～1600℃进行烧结，并保温3～6小时，随炉冷却后得到所述光学镀膜材料。
5.根据权利要求4所述的光学镀膜材料的制备方法，其特征在于，所述步骤S4还包括：对随炉冷却后的光学镀膜材料进行过筛。
6.一种光学增透膜，其特征在于，所述增透膜由权利要求1至3任一项所述的光学镀膜材料镀制而成。
7.一种光学增透膜，其特征在于，所述增透膜由权利要求4或5所述的光学镀膜材料制备方法所制备的光学镀膜材料镀制而成。
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