[发明专利]一种高折射率光学镀膜材料及制备方法、光学增透膜

说明书

本发明提供了一种高折射率光学镀膜材料及其制备方法、光学增透膜，用以解决现有技术中氧化钛等增透膜材料易形成斑点、强度不高易产生划痕的问题。本发明的光学镀膜材料，为氧化钛‑三氧化二铝二元复合结构，通过在氧化钛原料中加入三氧化二铝后共烧，形成氧化钛‑三氧化二铝复合结构，获得更稳定的薄膜结构，从而解决了在镀制过程中的氧气释放问题，同时，氧化钛‑三氧化二铝二元结构形成的膜层强度明显比单独氧化钛膜层的强度大，所制备的增透膜不易产生划痕，寿命更长。

技术领域

本发明属于光学材料及薄膜技术领域，具体涉及一种高折射率光学镀膜 材料及制备方法、光学增透膜。

背景技术

在一个光学成像系统中，用于成像的自然光有些是有益光，可以增加成 像清晰度；有些是有害光，会降低成像的清晰度。为了增加成像系统的清晰 度，通常通过在成像镜头或透光的玻璃上增加增透膜。1817年德国的夫琅和 费发明了化学镀膜并制成了第一批增透膜。增透膜的原理是通过在光学玻璃 上增加一层相当于反射光的波长的四分之一的透明薄膜，而使得在透明薄膜 上下两个表面所反射的两束光相差半个波程，使得两束光反生干涉，从而相 互抵消，来减少反射光，同时增加透射光，提高成像系统的清晰度。现有技术中，增透膜广泛的应用于相机镜头、眼镜镜片、各种可视窗口等。

现有技术中，用于制备增透膜的材料通常采用氧化钛，氧化钛是一种高 折射率的光学镀膜材料，应用范围十分广泛。但是，氧化钛在镀膜过程中， 会释放氧气，使真空度波动较大，膜层易形成斑点；另一方面氧化钛强度相 对较低，镀制膜层在使用的过程中易形成划痕。

发明内容

本发明实施例为了解决现有技术中氧化钛等增透膜材料易形成斑点、强 度不高易产生划痕的问题，提出了一种光学镀膜材料及其制备方法，以及采 用所述光学镀膜材料镀制的光学增透膜。本发明的光学镀膜材料采用在氧化 钛原料中加入三氧化二铝后共烧，形成氧化钛-三氧化二铝复合结构，获得更 稳定的薄膜结构，从而解决了在镀制过程中的氧气释放问题，同时，氧化钛- 三氧化二铝二元结构形成的膜层强度明显比单独氧化钛膜层的强度大，所制 备的增透膜不易产生划痕，寿命更长。

为了实现上述目的，本发明采取了如下技术方案。

一种光学镀膜材料，所述材料为氧化钛-三氧化二铝二元复合结构。

进一步地，所述氧化钛包括：二氧化钛、七氧化四钛、五氧化三钛、三 氧化二钛、一氧化钛。

进一步地，所述光学镀膜材料中氧化钛-三氧化二铝二元复合结构中的重 量比为氧化钛:三氧化二铝＝(75～95):(25～5)。

本发明还提供了一种光学镀膜材料的制备方法，所述方法包括如下步 骤：

步骤S1，称取预定重量比的二氧化钛粉末和三氧化二铝粉末；

步骤S2，将所述二氧化钛粉末和三氧化二铝粉末混合均匀后，进行造 粒；

步骤S3，将造料后得到的微颗粒/微片/微块放入马弗炉中在1100～1250℃ 进行预烧结，并保温3～5小时，随炉冷却后得到预烧微颗粒/微片/微块；

步骤S4，将所述预烧微颗粒/微片/微块放入真空炉中在1400～1600℃进行 烧结，并保温3～6小时，随炉冷却后得到所述光学镀膜材料。

进一步地，所述步骤S4还包括：对随炉冷却后的光学镀膜材料进行过 筛。

本发明还提供了一种光学增透膜，所述增透膜由如上所述的光学镀膜材 料镀制而成。

本发明还提供了一种光学增透膜，所述增透膜由如上所述的光学镀膜材 料制备方法所制备的光学镀膜材料镀制而成。