[发明专利]一种低硅铝比TON型分子筛的合成方法

权利要求书

1.一种低硅铝比TON型分子筛的合成方法，其特征在于：以有机胺为模板剂，使用硅源、铝源和氢氧化钾合成低硅铝比TON型分子筛；包括以下步骤：

1）制备前体混合物：将硅源、铝源、氢氧化钾、有机胺、水按一定比例混合，搅拌至均匀，形成前体混合物A，A中Al₂O₃:SiO₂:K₂O:有机胺:H₂O摩尔比例为1:80-500:1-100:1-200:1000-8000；

2）将制得的前体混合物A于80℃-250℃条件下加热晶化5h-72h后，冷却至室温，得到混合物B；

3）向混合物B中加入一定量的铝源和水，搅拌至均匀，得到混合物C，C中Al₂O₃:SiO₂:K₂O:有机胺:H₂O摩尔比例为1:1-60:1-100:1-200:100-4000；

4）将混合物C于100℃-250℃条件下加热晶化5h-120h；

5）晶化结束后，将混合物冷却至室温，过滤、洗涤并干燥，在300°C-600°C下焙烧5h-36h，得到的固体为低硅铝比TON型分子筛。

2.按照权利要求1所述的合成方法，其特征在于：步骤1)中硅源为硅溶胶、水玻璃、白炭黑、正硅酸乙酯中的一种或二种以上。

3.按照权利要求1所述的合成方法，其特征在于：铝源为异丙醇铝、偏铝酸钠、拟薄水铝石、硫酸铝、硝酸铝中的一种或二种以上。

4.按照权利要求1所述的合成方法，其特征在于：有机胺为二乙胺，1,6-己二胺、1-丁胺或乙醇胺等中的一种或两种以上。

5.按照权利要求1所述的合成方法，其特征在于：步骤1)混合物A中Al₂O₃:SiO₂:K₂O:有机胺:H₂O摩尔比例为1:80-200:1-50:1-100:3000-6000。

6.按照权利要求1所述的合成方法，其特征在于：步骤2)混合物A晶化温度为100℃-200℃；晶化时间为10h-48h。

7.按照权利要求1所述的合成方法，其特征在于：步骤3)混合物C中Al₂O₃:SiO₂:K₂O:有机胺:H₂O摩尔比例为1:10-40:1-30:1-50:200-2000。

8.按照权利要求1所述的合成方法，其特征在于：步骤4)混合物C晶化温度为100℃-200℃；晶化时间为12h-100h。

9.按照权利要求1所述的合成方法，其特征在于：步骤5)中焙烧温度为450℃-550℃；焙烧时间为6h-24h。