[发明专利]特异性识别赭曲霉毒素A的POSS有机-无机杂化分子印迹整体柱及其制备方法

说明书

本发明公开了特异性识别赭曲霉毒素A的POSS有机‑无机杂化分子印迹整体柱及其制备方法，属于分析化学领域。所述的整体柱是以高亲水有机聚合单体、交联剂、模板、引发剂，和二元致孔剂为原料，溶解形成均一的溶液，注入柱内发生自由基热引发聚合反应而直接形成，之后经柱冲洗，即得成品。本发明中所制备特异性识别赭曲霉毒素A的POSS有机‑无机杂化分子印迹整体柱负载量大、特异性强，机械性能稳定，制备方法简便快捷，适用于赭曲霉毒素A的特异识别分离，该分子印迹整体柱在啤酒基质中对赭曲霉毒素A的检测回收率达96.6%，为赭曲霉毒素A的特异识别分离提供了新途径。

技术领域

本发明属于分析化学领域，具体涉及特异性识别赭曲霉毒素A的POSS有机-无机杂化分子印迹整体柱及其制备方法。

背景技术

分子印迹整体柱（Molecular Imprinted Monolithic Column，MIPMC）是近年来发展迅速的一种新型色谱填料整体柱。其色谱填料大孔聚合物介质通过原位聚合方法合成即由单体、引发剂、交联剂及致孔剂溶液在空管柱中聚合制得。分子印迹整体柱具有制备过程简单、传质速度快、重复性好、柱压低等优点，是一种非常具有应用潜力的色谱固定相，因而受到了人们越来越多的重视。分子印迹整体柱根据其制备方法和原料的不同分为三类：有机分子印迹聚合物整体柱、无机分子印迹整体柱和有机-无机杂化分子印迹整体柱。有机分子印迹聚合物整体柱具有出色的pH稳定性和各种单体的易得性。然而，当暴露于不同的流动相时，这些材料可能会收缩或膨胀，并且不同溶剂中的不同程度的溶胀可能会显著改变聚合物网络的形态；无机分子印迹整体柱具有良好的光学性能、机械性能以及化学惰性，但无机分子印迹整体柱不可避免地存在裂解和收缩，并且溶胶-凝胶过程难以控制等问题。而有机-无机杂化分子印迹整体柱则可以成功克服有机分子印迹整体柱和无机分子印迹整体柱的缺点。

多面体低聚倍半硅烷（POSS）具有独特的笼状结构，由于其易于化学改性、良好的pH耐受性、耐高温、抗氧化等优点，已经作为功能单体或交联剂被广泛应用于杂化整体材料的制备。自从Li课题组首次将POSS用于制备分子印迹整体柱，基于POSS的印迹材料得到越来越多的关注（J Chromatogr A. 2015，1425，180-188）。利用POSS单体，尤其是乙烯基POSS是提高所得印迹聚合物亲和性、简化制备过程的有效方法。然而，目前基于POSS印迹整体柱的报道还很少，其优点还没有得到充分的论证。特别是，目前还没有乙烯基POSS杂化整体柱结合分子印迹技术、一锅法制备对赭曲霉毒素A（OTA）具有特异性识别分子印迹整体柱的报道。

发明内容

本发明的目的在于提供特异性识别赭曲霉毒素A的POSS有机-无机杂化分子印迹整体柱及其制备方法。该整体柱负载量大、特异性强，机械性能稳定，制备方法简便快捷。是由通过“一步聚合”的方式，采用致实现高亲水有机聚合单体、交联剂、模板、引发剂以及二元致孔剂五种组分的高度兼容，利用柱内自由基热引发聚合反应实现了快速、高效率、稳定的分子印迹整体柱的制备，所得到的分子印迹杂化整体柱可实现对目标物的高效识别，且对啤酒基质中目标物的回收率可达96.6%。

为实现上述目的，本发明采用如下技术方案：

特异性识别赭曲霉毒素A的POSS有机-无机杂化分子印迹整体柱是将高亲水有机聚合单体、交联剂、模板、引发剂和二元致孔剂为原料，溶解形成均一的溶液，注入柱内通过发生自由基热引发聚合而直接形成。

上述的高亲水有机聚合单体为：2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸单体；交联剂为：笼型低聚倍半多聚硅氧烷和丙烯酸酯；上述的模板为赭曲霉毒素A溶液；上述的引发剂为：偶氮二异丁氰；上述二元致孔剂为：N,N-二甲基甲酰胺和PEG 10000；

进一步的，上述笼型低聚倍半多聚硅氧烷与丙烯酸酯的质量比为1:（20-25）；所述二元致孔剂，其组成按质量百分比计为：N,N-二甲基甲酰胺93.5%-96.5%，PEG 10000 3.5%-6.5%；