[发明专利]基片装载系统及其基片装载方法

说明书

本发明提供了一种基片装载系统及其装载方法，所述系统包括装载装置，及至少一基片存储卡匣，基片存储卡匣活动的容置于所述装载装置内；装载装置包括至少一箱体，及与箱体配套设置的提升机构，提升机构包括驱动组件和提升组件；基片存储卡匣包括存储箱，及基片放置组件，基片放置组件与所述提升机构相匹配，提升机构通过所述提升组件带动所述基片放置组件置入所述存储箱或从所述存储箱抽出。本发明的有益效果体现在：基片清洗与蒸镀生产线分离，将洁净的基片存储到干氮环境中，防止基片表面的污染；本方案在生产线上时只需两个独立的箱体，以及多个小型的基片存储腔体；通过两个独立基片装载箱体，交换工作，达到OLED设备流片要求。

技术领域

本发明属于基片蒸镀技术领域，尤其涉及一种基片装载系统及其基片装载方法。

背景技术

有机薄膜电致发光显示器件（OLED）作为一个应用前景广阔的领域，近年来得到了迅速发展，每年有非常大的市场需求，现今OLED面板的生产主要以流水线形式，生产线可以提高产量，满足供应需求；

OLED面板的工艺流程是在洁净的ITO基片上蒸镀多层有机材料，最后再镀一层金属电极。在蒸镀有机材料前，必须保证ITO基片的洁净，一般把洁净的ITO基片放入真空或者干氮环境中，保护ITO表面不被污染；现今的大型蒸镀设备把基片清洗、烘干集成到整个OLED生产线中，导致了整个生产线尺寸过于庞大，清洗后的ITO基片将会被放置到一个内部具有传动装置的真空腔体中，多个真空腔体并排，形成一个真空度从低到高的真空梯度环境；基片在进入某腔体后，前级阀门关闭，大抽速泵开启，真空度升高，打开下级阀门，进入下个腔体。但此方案要求要多个腔体，且每个腔体的尺寸较大，选用的泵抽速较大，要求真空度从1bar到1.0*10^-5Pa的过渡，导致此种方案的OLED设备成本过高。

而对于小型实验性蒸镀设备，一般有一个ITO基片装载腔体，每次打开后放置ITO基片，再抽真空，这样容易造成ITO基片表面暴露空气中而造成污染严重，对OLED面板的性能有很大影响。

发明内容

为了解决现有技术的不足，本发明提供了一种基片装载系统及其基片装载方法。

本发明的目的通过以下技术方案来实现：

基片装载系统，包括装载装置，及至少一基片存储卡匣，所述基片存储卡匣活动的容置于所述装载装置内；

所述装载装置包括至少一箱体，及与箱体配套设置的提升机构，所述提升机构包括驱动组件和提升组件；

所述基片存储卡匣包括存储箱，及基片放置组件，所述基片放置组件与所述提升机构相匹配，所述提升机构通过所述提升组件带动所述基片放置组件置入所述存储箱或从所述存储箱抽出。

优选地，所述存储箱设有开口，所述基片放置组件通过所述开口置入或抽离所述存储箱；

所述基片放置组件包括卡匣盖板，及设置于所述卡匣盖板下方的基片架，所述基片架上设置有用于水平放置基片的基片夹持器，所述卡匣盖板与所述存储箱密封卡合连接，所述卡匣盖板的两侧边缘向外延伸突出所述存储箱箱口宽度，形成与所述提升机构配合的翼状部。

优选地，所述卡匣盖板上设置有与所述存储箱开口相匹配的密封组件，所述卡匣盖板上设置有便于与所述存储箱连接的定位组件。

优选地，所述存储箱或卡匣盖板上设置有用于充放气体的阀门以及与存储箱内部单向连通的单向阀，所述单向阀的连通方向为气体能够从存储箱内部流至存储箱外部。

优选地，所述提升机构包括提升盖板及设置于提升盖板上的提升部组成，所述提升部包括提拉杆，所述提拉杆的底部与其垂直设置有提拉横杆，所述提拉杆的上端延伸穿出提升盖板外与驱动机构连接，所述提拉横杆底部设置有与所述卡合结构连接的提勾。