[发明专利]密封结构及其制作方法和显示装置

权利要求书

1.一种密封结构，包括：

衬底基板；

位于所述衬底基板上的密封胶；以及

位于所述衬底基板和所述密封胶之间且与所述密封胶接触的接触层，其中，所述接触层的远离所述衬底基板的接触层表面在与所述密封胶接触的接触位置处是非平坦的。

2.根据权利要求1所述的密封结构，其中，所述接触层表面在与所述密封胶接触的接触位置处设置有至少一个接触层凹槽，所述密封胶延伸到所述至少一个接触层凹槽中。

3.根据权利要求2所述的密封结构，其中，所述至少一个接触层凹槽包括第一凹槽和第二凹槽，并且所述第一凹槽和所述第二凹槽的深度不同。

4.根据权利要求3所述的密封结构，其中，所述至少一个接触层凹槽包括多个所述第一凹槽和多个所述第二凹槽，并且多个所述第一凹槽和多个所述第二凹槽交错设置。

5.根据权利要求2所述的密封结构，其中，所述至少一个接触层凹槽包括封闭的环形凹槽。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的密封结构，还包括：

位于所述衬底基板和所述接触层之间的有机层，其中，所述有机层的远离所述衬底基板的有机层表面在所述密封胶所在位置处是非平坦的，以使所述接触层表面在所述接触位置处是非平坦的。

7.根据权利要求6所述的密封结构，其中，所述有机层表面在所述密封胶所在位置处设置有至少一个有机层凹槽，所述接触层和所述密封胶都延伸到所述至少一个有机层凹槽中。

8.根据权利要求7所述的密封结构，其中，所述至少一个有机层凹槽包括至少一个通孔凹槽和至少一个盲孔凹槽，所述通孔凹槽的深度等于所述有机层的厚度，所述盲孔凹槽的深度小于所述有机层的厚度。

9.根据权利要求7所述的密封结构，其中，所述至少一个有机层凹槽包括多个通孔凹槽，每个所述通孔凹槽的深度等于所述有机层的厚度。

10.根据权利要求1-5中任一项所述的密封结构，其中，所述密封结构包括：

第一无机层，其位于所述衬底基板上；

第二无机层，其位于所述第一无机层的远离所述衬底基板的一侧，

其中，所述第一无机层和所述第二无机层在所述衬底基板上的正投影都与所述密封胶在所述衬底基板上的正投影交叠；并且，所述第二无机层作为所述接触层，或者所述第一无机层和所述第二无机层都位于所述接触层和所述衬底基板之间。

11.根据权利要求10所述的密封结构，其中，对于同一干刻工艺，所述第一无机层的干刻速率小于所述第二无机层的干刻速率。

12.根据权利要求10所述的密封结构，其中，所述第一无机层和所述第二无机层的材料的化学组成相同，并且所述第一无机层的折射率大于所述第二无机层的折射率。

13.根据权利要求12所述的密封结构，其中，所述第一无机层和所述第二无机层的材料为二氧化硅、氮化硅和氮氧化硅中的至少一种。

14.根据权利要求1-5中任一项所述的密封结构，其中，所述密封胶为光固化型密封胶。

15.一种显示装置，包括权利要求1-14中任一项所述的密封结构。

16.一种密封结构的制作方法，包括：

在衬底基板上形成接触层；以及

在所述接触层上形成与所述接触层接触的密封胶，其中，所述接触层的远离所述衬底基板的接触层表面在与所述密封胶接触的接触位置处是非平坦的。