[发明专利]一种PZT驱动微间隙标准具制作方法

说明书

本发明涉及一种PZT驱动微间隙标准具制作方法，包括以下步骤：1）刻槽：利用飞秒激光分别在第一光纤、第二光纤和第三光纤的一端面刻蚀出第一微平凹槽、第二微平凹槽和第三微球形凹槽；2）制光学表面：通过微熔或者抛光分别将第一微平凹槽、第二微平凹槽和第三微球形凹槽的表面制成光学级的光学表面；3）镀膜：对第一微平凹槽、第二光纤的另一端面、第二微平凹槽和第三微球形凹槽镀膜；4）抛光：对第一光纤、第二光纤和第三光纤的一端面进行抛光；5）熔接：将抛光后的第一光纤与第二光纤的一端面熔接成一体；6）制具：将第三光纤的一端面间隙设置在第二光纤的另一端面，第三光纤由PZT驱动器带动沿光路方向微移动以微调节间隙大小，第二微平凹槽的HR膜面与第三微球形凹槽的HR膜面构成平凹结构光纤标准具的谐振腔。

技术领域

本发明涉及光学技术领域，尤其是涉及一种PZT驱动微间隙标准具制作方法。

背景技术

传统的微标准具，通常是先在一个单模光纤端面酸刻蚀微凹，然后利用熔接机将其与普通光纤熔接而成；然而，这种制作方法难度极大，且刻蚀范围与深度等参数难以控制，而且在微间隙标准具中，间隙大小难以调节，安装难度大。

发明内容

本发明的目的在于针对现有技术的不足，提供一种设计合理，制作工艺简单，微间隙调节快速精准的PZT驱动微间隙标准具制作方法。

为实现上述目的，本发明采用以下技术方案：

一种PZT驱动微间隙标准具制作方法，其包括以下步骤：

1）刻槽：利用飞秒激光分别在第一光纤、第二光纤和第三光纤的一端面刻蚀出第一微平凹槽、第二微平凹槽和第三微球形凹槽；

2）制光学表面：通过微熔或者抛光分别将第一微平凹槽、第二微平凹槽和第三微球形凹槽的表面制成光学级的光学表面；

3）镀膜：分别在第一微平凹槽的光学表面和第二光纤的另一端面镀AR膜，并分别在第二微平凹槽和第三微球形凹槽的光学表面镀HR膜；

4）抛光：对第一光纤的一端面进行抛光以去除第一微平凹槽之外的AR膜，对第二光纤的一端面进行抛光以去除第二微平凹槽之外的HR膜，并对第三光纤的一端面进行抛光以去除第三微球形凹槽之外的HR膜；

5）熔接：将抛光后的第一光纤的一端面与第二光纤的一端面熔接成一体，并使得第一微平凹槽的AR膜和第二微平凹槽的HR膜位于光路上；

6）制具：将第三光纤的一端面间隙设置在第二光纤的另一端面，并使第三微球形凹槽的HR膜和第二微平凹槽的AR膜位于光路上，所述第三光纤连接在PZT驱动器上，由PZT驱动器带动沿光路方向微移动以微调节间隙大小，制得光纤标准具；其中，所述第二微平凹槽的HR膜面与第三微球形凹槽的HR膜面构成平凹结构光纤标准具的谐振腔。

步骤2）中，通过加热烘烤或者激光聚焦分别使得第一微平凹槽、第二微平凹槽和第三微球形凹槽的表面微熔，依靠表面张力形成光学级的光学表面。

步骤2）中，通过软抛光垫分别将第一微平凹槽、第二微平凹槽和第三微球形凹槽的表面抛光成光学级的光学表面。

步骤5）中，将抛光后的第一光纤的一端面与第二光纤的一端面采用光纤熔接机熔接成一体。