[发明专利]考虑机台交互作用的辨识良率损失原因的系统与方法

说明书

一种考虑机台交互作用的辨识良率损失原因的系统与方法。本发明实施例提供一种双阶段(Two‑Phase)处理过程，以寻找生产线的良率损失的根本原因。在第一阶段中，辨识出可能会引起良率损失的两制程机台间、两参数间、或制程机台与参数间的交互作用。在第二阶段中，获得第一阶段所发现的会引起良率损失的参数的门槛值，据以调整制程来提升良率。在每一个阶段中，可使用两个不同的演算法来产生一信赖指标(RI_I)，以评估其搜寻结果的可靠程度。

技术领域

本发明是有关于一种辨识良率损失原因的系统与方法，且特别是有关于一种考虑机台交互作用的辨识良率损失原因的系统与方法。

背景技术

提高产品良率对于公司的盈利能力表现至关重要，特别是在研发和量产阶段。所有的制造者无不寻求在研发和量产阶段中迅速地提高产品良率。换言之，当良率损失发生时，必须在研发和量产阶段中快速地找出引起此良率损失的根本原因。当遭遇到良率损失时，习知的良率提升方法是收集所有生产相关数据来进行大数据分析，以找出造成良率损失的根本原因并改正这些根本原因。然而，生产相关数据常常是数量庞大且复杂的，因此非常难以从生产相关数据中寻找良率损失的根本原因。

随着半导体及薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)制造技术的进步，其制程变得愈来愈复杂。因此，如何维持这些复杂的制程的可行的良率便成为一必要的议题。良率管理系统的目标是在提升良率。然而，在研发和产量上升阶段中，由于工件数量少，使得良率管理系统难以在所有生产机台中找出缺陷的根本原因。因此，如何在有限数量的工件样本情况下于数量众多生产机台中，找出造成良率损失的不良制程机台的关键参数，便成为众所关心的议题。这种挑战即所谓的高维度变数选取(High Dimensional Variable Selection)问题，其亦标示为pn的问题，其中“p”代表半导体及TFT-LCD制程中的制程机台的解释制程相关参数的数量，而另一方面，“n”是半导体及TFT-LCD制程中的成品(被处理的工件)的采样数目。

发明内容

本发明的一目的是在提供一种辨识出良率损失原因的系统与方法，借以搜寻出造成良率损失的机台间或参数间的交互作用，并比较具有交互作用的机台或参数对良率的影响是否高于单一机台或参数本身对良率的影响，因而决定是否应改善机台间或参数间的交互作用来提升良率。

本发明的又一目的是在提供一种辨识出良率损失原因的系统与方法，借以搜寻影响良率的参数的门槛值，再透过对此门槛值的控制来提升良率。