[发明专利]光学检测方法、系统及光学器件制造系统

说明书

本发明提供了一种光学检测方法、系统及光学器件制造系统，包括：图像生成系统：生成测试图像信息，将含有所述测试图像信息的光输出至待测器件；图像检测系统：根据经过所述待测器件的光得到检测图像信息；控制系统：根据所述检测图像信息的成像质量，得到像差参数。本发明可以模拟任意波前，根据补偿镜头中尚未装配的镜片，可以直接模拟出已装配的镜片能够达到最终成像效果，若发现存在问题，则可以直接给出反馈停止装配进行修正，避免将后续好的镜片装配到已存在问题的镜头上。

技术领域

本发明涉及光学检测领域，具体地，涉及光学检测方法、系统及光学器件制造系统。

背景技术

经检索，专利文献CN207976139U公开了一种可变物距光学检测装置，用以检测一待测光学装置，其中，可变物距镜头影像模块的位移改变模块，连接于望远镜头模块的该些镜头或影像感测器，用以调整该些镜头间的一镜头间距离、影像感测器与望远镜头模块间的一像距、或该镜头间距离及该像距的组合。现有技术的不足之处在于，镜头影像模块仅可以改变物距镜头的位置，无法对波前进行相应的模拟，能够适用的被测试器件的种类较少，且通用应用范围较窄。

发明内容

针对现有技术中的缺陷，本发明的目的是提供一种光学检测方法、系统及光学器件制造系统。

根据本发明提供的一种光学检测系统，包括：

图像生成系统：生成测试图像信息，将含有所述测试图像信息的光输出至待测器件；

图像检测系统：根据经过所述待测器件的光得到检测图像信息；

控制系统：计算或选取测试图像信息，并输出至图像生成系统。

优选地，所述控制系统根据所述检测图像信息的成像质量，得到像差参数。

优选地，所述控制系统包括：

标准判断系统：判断检测参数是否满足判断标准；若满足判断标准，则输出检测结果；否则，则根据当前的像差参数得到补偿参数，并将补偿参数叠加到当前的测试图像信息上进行补偿，由图像生成系统生成补偿后的测试图像信息。

优选地，所述测试图像信息包括调制波前的全息图或者相息图。

优选地，所述测试图像信息占待测器件目标像高的全部或部分；和/或，所述测试图像信息占待测器件目标视场的全部或部分。

优选地，所述图像生成系统分别生成包含设定波前调制的测试图像信息，对应待测器件目标像高的不同部分，和/或目标视场的不同部分；并且所述测试图像信息以不同参数和/或针对对象先后输出多次。

优选地，所述图像生成系统包括至少一个空间光调制器。

优选地，所述多个空间光调制器中具有相位空间光调制器和/或强度空间光调制器。

优选地，所述空间光调制器包含硅基液晶、LCD、微镜阵列DMD、OLED、微振镜、光栅、光栅阵列中的任一种或任多种器件。

优选地，所述硅基液晶器件采用相位调制方式.

优选地，所述硅基液晶器件采用ECB或VAN模式。

优选地，所述图像生成系统包括光源、透镜、光阑、旋光片、玻片、偏振片、棱镜中的任一种或任多种光学元器件。

优选地，所述光源包含至少一个或多个波长。

优选地，所述图像检测系统包括CCD、CMOS、胶片中的任一种或任多种成像器件。

优选地，所述控制系统控制并同步图像生成系统及图像检测系统。