[发明专利]一种厚铜DCB板的制备方法在审
申请号: | 201811474623.7 | 申请日: | 2018-12-04 |
公开(公告)号: | CN111278220A | 公开(公告)日: | 2020-06-12 |
发明(设计)人: | 王英辉;陈诚;陆阳婷 | 申请(专利权)人: | 中科院微电子研究所昆山分所 |
主分类号: | H05K3/00 | 分类号: | H05K3/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 罗满 |
地址: | 215347 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 dcb 制备 方法 | ||
1.一种厚铜DCB板的制备方法,其特征在于,包括:
在初始DCB板的至少一个铜层表面覆盖铜箔;
在所述铜箔背向所述初始DCB板一侧表面覆盖加压基板;其中,所述加压基板朝向所述铜箔一侧表面的表面粗糙度不大于10nm;
在预设温度下通过所述加压基板向所述初始DCB板与所述铜箔之间施加预设压强,至所述初始DCB板与所述铜箔相互键合;
将所述加压基板从所述铜箔表面分离,以制成所述厚铜DCB板。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述在初始DCB板的至少一个铜层表面覆盖铜箔包括:
在初始DCB板的至少一个铜层表面覆盖铜箔;其中,所述铜箔的厚度的取值范围为10μm至300μm,包括端点值。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述在初始DCB板的至少一个铜层表面覆盖铜箔包括:
在所述初始DCB板相对设置的两个铜层表面分别覆盖铜箔。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述在所述铜箔背向所述初始DCB板一侧表面覆盖加压基板包括:
在所述铜箔背向所述初始DCB板一侧表面覆盖加压基板;其中,所述加压基板的厚度的取值范围为200μm至1000μm,包括端点值。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述在所述铜箔背向所述初始DCB板一侧表面覆盖加压基板包括:
在所述铜箔背向所述初始DCB板一侧表面覆盖加压基板;其中,所述加压基板为氧化铝基板、或碳化硅基板、或二氧化硅基板。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述在预设温度下通过所述加压基板向所述初始DCB板与所述铜箔之间施加预设压强包括:
在预设温度下通过所述加压基板向所述初始DCB板与所述铜箔之间施加预设压强;其中,所述预设温度不低于铜熔点温度的80%。
7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述在预设温度下通过所述加压基板向所述初始DCB板与所述铜箔之间施加预设压强包括:
在预设温度下通过所述加压基板向所述初始DCB板与所述铜箔之间施加预设压强;其中,所述预设压强的取值范围为10MPa至500MPa,包括端点值。
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述在预设温度下通过所述加压基板向所述初始DCB板与所述铜箔之间施加预设压强,至所述初始DCB板与所述铜箔相互键合包括:
在预设温度下通过所述加压基板向所述初始DCB板与所述铜箔之间施加预设压强并保持预设时间,以使所述初始DCB板与所述铜箔相互键合;其中,所述预设时间的取值范围为1min至100min,包括端点值。
9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述在预设温度下通过所述加压基板向所述初始DCB板与所述铜箔之间施加预设压强包括:
将覆盖有所述加压基板的所述初始DCB板置于加压加热炉的底座表面;
通过所述加压加热炉的加压部件对所述加压基板施加预设压力,以在所述初始DCB板与所述铜箔之间施加预设压强;
通过所述加压加热炉的加热部件将所述初始DCB板与所述铜箔加热至预设温度。
10.根据权利要求1至9任一项权利要求所述的方法,其特征在于,所述在初始DCB板的至少一个铜层表面覆盖铜箔包括:
在多个初始DCB板的铜层表面分别覆盖铜箔;其中,相邻所述初始DCB板相对设置,任一所述DCB板均包括相对设置的两个铜层;
所述在所述铜箔背向所述初始DCB板一侧表面覆盖加压基板包括:
在相邻所述铜箔之间设置加压基板;并在位于最外侧的两个铜箔背向任一所述初始DCB板一侧表面分别覆盖所述加压基板。
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