[发明专利]掩模单元及曝光装置

权利要求书

1.一种掩模单元，搭载于曝光装置，其特征在于，该掩模单元具备：

膜掩模；

透明板，支承所述膜掩模；以及

掩模框架，在周边部保持所述透明板，

所述掩模框架具有能够将所述膜掩模真空吸附的真空吸附孔，

在所述透明板的与所述膜掩模对置的面设有凹部或凸部，该凹部或凸部形成到达该面的一边的边缘的排气空间。

2.如权利要求1所述的掩模单元，其特征在于，

所述掩模框架在与所述透明板的端面对置的内侧面具有能够进行真空吸引的吸引口。

3.如权利要求1所述的掩模单元，其特征在于，

所述透明板具有倒角部，该倒角部是将与所述膜掩模对置的表面和端面连接的倾斜的面，

所述凹部或凸部为所述排气空间到达所述倒角部的中途的形状。

4.一种曝光装置，其特征在于，具备：

输送系统，向曝光作业位置输送基板；

权利要求1～3的任一项所述的掩模单元，配置于所述曝光作业位置；以及

曝光单元，穿过所述掩模单元的所述膜掩模照射光而对所述基板进行曝光，

所述曝光装置设有去除所述膜掩模的表面的异物的清洁头以及头移动机构，

所述头移动机构是使所述清洁头一边与所述膜掩模接触一边移动的机构，并且使所述清洁头从所述透明板的与所述一边相反的一侧的一边的边缘朝向所述一边的边缘移动。

5.如权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，

所述清洁头是在表面形成粘接层、且一边与所述膜掩模接触一边旋转的清洁辊。

6.如权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，

所述头移动机构是在所述清洁头接近所述一边的边缘时使移动的速度减速的机构。