[发明专利]掩模单元及曝光装置

说明书

本发明提供掩模单元及曝光装置。使膜掩模能够容易地紧贴于透明板，并消除被转印的图案的形状精度的下降的问题。支承于透明板(2)的膜掩模(1)的周边部被掩模框架(3)的真空吸附孔(34)真空吸附。形成于透明板(2)的与膜掩模(1)对置的面的排气槽(21)到达该面的右侧的边缘，在倒角部(22)的中途终止。曝光装置所具备的清洁辊(91)从膜掩模(1)的左侧的边缘至右侧的边缘一边与膜掩模(1)接触而滚动一边移动，进行异物(c)的去除与气泡(g)的挤出。形成了气泡(g)的气体经由排气槽(21)、吸引口(37)被排出。

技术领域

该申请发明涉及在各种产品的制造中用于图案的转印的曝光装置，还涉及搭载于曝光装置的掩模单元。

背景技术

向对象物照射规定的图案的光而进行曝光的曝光装置正作为光刻的核心技术被用于各种用途。在曝光装置中，也已知有直接描绘图案的类型的装置，但通常通过掩模照射光，将掩模的图案转印到对象物。

搭载于曝光装置的掩模成为在透明的玻璃板上用遮光材料描绘有图案的结构。通常，使遮光材料的膜覆盖在玻璃板上，通过光刻来图案化。

对于这样的玻璃制的掩模，最近也变得较多使用所谓的膜掩模(film mask)。通过遮光材料形成图案的是用PET(聚对苯二甲酸乙二酯)膜那样的材料形成的透明的薄膜，成为用玻璃板支承该膜(膜掩模)的结构。

在膜掩模的情况下，能够共用玻璃板，只要根据品种仅制作各种膜掩模并保管即可。因此，成为低成本，且保管、操作也容易。保管所需的空间也变小。据此，采用膜掩模的曝光装置变多。

专利文献1：日本特开昭61－41151号公报

专利文献2：日本特开平11－30851号公报

发明内容

膜掩模虽然有上述那样的优点，但是必须以充分地紧贴于玻璃板的状态搭载于曝光装置，这一点成为课题。即使欲将薄且柔软的膜掩模抵靠于玻璃板而使其紧贴，也容易在其间残留气泡。若气泡残留，则在该部分膜掩模的图案变形，因此被转印的图案也变形，容易成为产品缺陷的原因。

因此，在将膜掩模按压于玻璃板后，需要操作者用刮刀摩擦而将气泡向外侧挤出的麻烦的作业，成为生产性提高的障碍。另外，在用刮刀摩擦时在膜掩模产生变形(伸长)，在变形了的状态下，膜掩模容易被紧贴、固定于玻璃板。问题在于，由于该变形随机地发生，因此控制困难。所以，容易导致被转印的图案的形状精度的下降。

该申请发明是为了解决上述那样的膜掩模中的课题而作出的，目的是使膜掩模能够容易地紧贴于透明板，并消除被转印的图案的形状精度的下降的问题。

为了解决上述课题，本申请的技术方案一所述的发明为一种搭载于曝光装置的掩模单元，具有如下构成，

膜掩模；

透明板，支承膜掩模；以及

掩模框架，在周边部保持透明板，

掩模框架具有能够将膜掩模真空吸附的真空吸附孔，

在透明板的与膜掩模对置的面设有凹部或凸部，该凹部或凸部形成到达该面的一边的边缘的排气空间。

另外，为了解决上述课题，技术方案二所述的发明具有如下构成，在所述技术方案一的构成中，所述掩模框架在与所述透明板的端面对置的内侧面具有能够进行真空吸引的吸引口。

另外，为了解决上述课题，技术方案三所述的发明具有如下构成，其特征在于，在所述技术方案一的构成中，

所述透明板具有倒角部，该倒角部是将与所述膜掩模对置的表面和端面连接的倾斜的面，

所述部位为所述排气空间到达倒角部的中途的形状。