[发明专利]光学薄膜转移方法和光学薄膜转移装置

权利要求书

1.一种光学薄膜转移方法，其特征在于，包括如下步骤：

基底准备步骤：在容器的刻蚀槽内置入非金属基底；

刻蚀液准备步骤：在所述刻蚀槽内加入金属刻蚀液；

刻蚀步骤：将附有金属基底的光学薄膜置于所述金属刻蚀液中，脱去所述金属基底，使所述光学薄膜漂浮于所述金属刻蚀液之上；

缓冲步骤：排出部分所述金属刻蚀液，加入部分缓冲液，排出其余的金属刻蚀液；

向所述刻蚀槽内加入缓冲液，并排出所述金属刻蚀液，所述缓冲液和所述金属刻蚀液互不相溶且所述缓冲液的密度小于所述金属刻蚀液；

薄膜贴合步骤：排出所述刻蚀槽内的液体，使所述光学薄膜下降并贴合在所述非金属基底上。

2.根据权利要求1所述的光学薄膜转移方法，其特征在于，所述缓冲步骤包括如下子步骤：

加液步骤：向所述刻蚀槽内加入缓冲液；

排液步骤：排出刻蚀槽内的至少部分液体；

循环所述加液步骤和排液步骤。

3.根据权利要求2所述的光学薄膜转移方法，其特征在于，在所述缓冲步骤中，至少有两次加液步骤中所加入的缓冲液为不同的缓冲液；

其中，前一次加液步骤所加入的缓冲液的密度大于后一次加液步骤所加入的缓冲液的密度。

4.根据权利要求1至3中任意一项所述的光学薄膜转移方法，其特征在于，所述基底准备步骤位于所述缓冲步骤之后。

5.一种光学薄膜转移装置，其特征在于，包括：

容器，所述容器形成有刻蚀槽，所述刻蚀槽内置有非金属基底，所述刻蚀槽内盛放有金属刻蚀液，所述容器内还设置有排出管道，所述排出管道用于排出部分金属刻蚀液，加入部分缓冲液，排出其余的金属刻蚀液，所述缓冲液和所述金属刻蚀液互不相溶且所述缓冲液的密度小于所述金属刻蚀液；

所述刻蚀槽用于在光学薄膜置于所述金属刻蚀液中时，脱去所述光学薄膜上所依附的金属基底，使所述光学薄膜漂浮于所述金属刻蚀液之上；在所述排出管道排出所述刻蚀槽内的液体后，能够将所述光学薄膜贴合在位于所述刻蚀槽内的非金属基底上。

6.根据权利要求5所述的光学薄膜转移装置，其特征在于，还包括：

注入管道，用于向所述容器内注入液体；

所述排出管道的管道口靠近所述容器的底部；

所述注入管道的管道口靠近所述容器的中间高度处。

7.根据权利要求6所述的光学薄膜转移装置，其特征在于，所述容器还形成有流动槽，所述流动槽和所述刻蚀槽之间设置有隔离壁；

所述刻蚀槽和流动槽通过所述隔离壁上的通孔彼此连通，所述非金属基底和所述光学薄膜置于所述刻蚀槽内，所述排出管道和所述注入管道的管道口位于所述流动槽内。

8.根据权利要求5至7中任意一项所述的光学薄膜转移装置，其特征在于，所述容器内设置有用于支撑所述非金属基底的支撑件，所述非金属基底倾斜地放置在所述支撑件上。

9.根据权利要求8所述的光学薄膜转移装置，其特征在于，所述容器还形成有准备槽，所述准备槽和所述刻蚀槽通过隔离件隔开，所述隔离件能够被移除；

所述光学薄膜转移装置还包括：

滑轨，连接所述刻蚀槽和所述准备槽，所述支撑件设置在所述滑轨上，且能够沿所述滑轨运动。