[发明专利]光学薄膜转移方法和光学薄膜转移装置

说明书

本申请涉及光学器件制造领域，提供了一种光学薄膜转移方法和装置，其中，光学薄膜转移方法包括如下步骤：基底准备步骤：在容器的刻蚀槽内置入非金属基底；刻蚀液准备步骤：在刻蚀槽内加入金属刻蚀液；刻蚀步骤：将附有金属基底的光学薄膜置于金属刻蚀液中，脱去金属基底，使光学薄膜漂浮于金属刻蚀液之上；薄膜贴合步骤：排出刻蚀槽内的液体，使光学薄膜下降并贴合在非金属基底上。本申请所提供的技术方案能够降低成本，提高生产良率。

技术领域

本申请涉及光学器件制造领域，特别涉及一种光学薄膜转移方法和光学薄膜转移装置。

背景技术

光学薄膜是由薄的分层介质构成的，通过界面传播光束的一类光学介质材料。光学薄膜的应用始于20世纪30年代。现代，光学薄膜已广泛用于光学和光电子技术领域，制造各种光学仪器。光学薄膜器件通常包括反射膜、减反射膜、偏振膜、干涉滤光片和分光镜等等。

在光学薄膜器件的制造过程中，往往需要将在金属基底上生长的光学薄膜转移到其他材质的基底上。

现有技术的转移方法主要有静电转移法和物理机械剥离法。

静电转移法可参考公开号为CN108807257A，名称为《静电吸附夹盘及其制造方法、以及半导体装置的制造方法》的中国发明专利，以及公开号为CN108535181A，名称为《剥离力测试系统及剥离力测试方法》的中国发明专利。这一方法通常借由静电力(库伦力)来保持光学薄膜，并借由将电极予以除电以去除静电力，实现光学薄膜的物理剥离。

物理机械剥离法可见于公开号为CN1088223531A，名称为《柔性六角铁氧体薄膜及其制备方法》的中国发明专利，其通常利用纯粹的机械手段对薄膜进行剥离。

显然，无论是静电转移法和物理机械剥离法都无法避免对光学薄膜的直接接触，容易因引入的夹具导致污染。而且，剥离不彻底的问题也进一步影响了良率。

发明内容

为了解决上述问题或至少部分地解决上述技术问题，在本申请的一个实施方式中，提供了一种光学薄膜转移方法，包括如下步骤：

基底准备步骤：在容器的刻蚀槽内置入非金属基底；

刻蚀液准备步骤：在刻蚀槽内加入金属刻蚀液；

刻蚀步骤：将附有金属基底的光学薄膜置于金属刻蚀液中，脱去金属基底，使光学薄膜漂浮于金属刻蚀液之上；

薄膜贴合步骤：排出刻蚀槽内的液体，使光学薄膜下降并贴合在非金属基底上。

本申请的实施方式还提供了一种光学薄膜转移装置，包括：

容器，容器形成有刻蚀槽，刻蚀槽内盛放有金属刻蚀液，容器内还设置有排出管道，排出管道用于排出刻蚀槽内的液体；

刻蚀槽用于在放入光学薄膜时，脱去光学薄膜上所依附的金属基底；刻蚀槽内的液体排出后，能够将光学薄膜贴合在位于刻蚀槽内的非金属基底上。

相比于现有技术而言，本实施方式借助于化学方法，对光学薄膜的金属基底进行了剥离。由于剥离过程中，无需通过机械设备接触光学薄膜表面，因此不易发生接触式的污染。而且，由于剥离的进度可通过延长刻蚀液与金属基底的接触时间来控制，因此能够避免剥离不彻底的问题，从而提高产品良率。

而且相对于现有技术而言，本申请的实施方式所提供的光学薄膜转移装置，由于无需设置复杂的吸盘、静电发生器等等机械结构，因此能够显著地降低设备成本和维护成本，进而降低生产成本。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍。显而易见地，下面描述中的附图仅用于示意本申请的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图中未提及的技术特征、连接关系乃至方法步骤。