[发明专利]制造显示装置的方法在审

专利信息
申请号: 201811501562.9 申请日: 2018-12-10
公开(公告)号: CN110021634A 公开(公告)日: 2019-07-16
发明(设计)人: 权宁吉;郑知泳 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 刘灿强;韩芳
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 非光敏 开口区域 无机材料层 像素限定层 显示装置 像素电极 临时层 开口 限定开口 宽度比 中间层 堤部 叠置 制造
【说明书】:

提供了一种制造显示装置的方法,所述方法包括:形成包括与像素电极对应的开口和限定开口的堤部的像素限定层;在像素限定层上形成第一非光敏层;在第一非光敏层的一部分上形成包括与第一非光敏层的材料不同的第二非光敏材料的临时层;使用临时层在第一非光敏层上形成无机材料层,使得无机材料层包括与开口对应的第一开口区域;在第一非光敏层中形成与第一开口区域叠置的第二开口区域,其中,第二开口区域的宽度比第一开口区域的宽度大;以及通过将第一非光敏层和无机材料层用作模板来在像素电极上形成中间层。

于2017年12月18日在韩国知识产权局提交的第10-2017-0174166号且发明名称为“制造显示装置的方法(Method of Manufacturing Display Device)”的韩国专利申请通过引用全部包含于此。

技术领域

一个或更多个实施例涉及一种制造显示装置的方法。

背景技术

有机发光显示装置是每个像素包括有机发光二极管(OLED)的显示装置。OLED包括像素电极、面对像素电极的对电极以及位于像素电极与对电极之间的发射层。

发明内容

实施例涉及制造显示装置的方法,所述方法包括:形成像素电极;形成包括与像素电极对应的开口和限定开口的堤部的像素限定层;在像素限定层上形成第一非光敏层;在第一非光敏层的一部分上形成临时层,临时层包括与第一非光敏层的材料不同的第二非光敏材料;通过使用临时层来在第一非光敏层上形成无机材料层以阻挡在第一非光敏层的其上形成有临时层的所述一部分上形成无机材料层,使得无机材料层包括与像素限定层中的开口对应的第一开口区域;在第一非光敏层中形成第二开口区域,第二开口区域与第一开口区域叠置,并且第二开口区域的宽度比第一开口区域的宽度大;以及通过将第一非光敏层和无机材料层用作模板来在像素电极上形成中间层。

所述方法还可以包括在中间层上形成导电层。

在形成导电层的步骤中,可以将分别包括第二开口区域和第一开口区域的第一非光敏层和无机材料层用作模板。

包括第二非光敏材料的临时层可以具有其下部的宽度比其上部的宽度小的底切结构。

临时层的下部可以包括第二非光敏材料,并且临时层的上部可以包括与临时层的下部的第二非光敏材料不同的材料。

临时层的上部可以包括光敏材料。

在形成无机材料层的步骤中,无机材料层的与第一开口区域相邻的端部与临时层的下部间隔开预定间隔。在第一非光敏层中形成第二开口区域的步骤可以包括去除临时层和第一非光敏层的与临时层叠置的部分。

第一非光敏层的第二开口区域的宽度可以比像素电极的通过像素限定层的开口暴露的宽度大。

在形成中间层的步骤中,可以相对于与像素电极的上表面垂直的方向倾斜地射入形成中间层的材料,使得在像素电极和与像素电极相邻的堤部上形成中间层。

第一非光敏层可以包括氟类非光敏材料。

附图说明

通过参照附图详细描述示例性实施例,特征对于本领域技术人员将变得明显,在附图中:

图1至图8示出了描绘根据实施例的制造显示装置的方法的阶段的剖视图;

图9A至图9C示出了描绘根据实施例的在形成显示装置的方法中形成第二开口区域的方法的阶段的剖视图;

图10A和图10B示出了描绘根据另一实施例的在形成显示装置的方法中形成第二开口区域的方法的阶段的剖视图;

图11至图13示出了描绘根据另一实施例的制造显示装置的方法的阶段的剖视图;以及

图14至图16示出了描绘根据另一实施例的制造显示装置的方法的阶段的剖视图。

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