[发明专利]一种抛光基座及抛光设备在审
| 申请号： | 201811505573.4 | 申请日： | 2018-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN109465738A | 公开（公告）日： | 2019-03-15 |
| 发明（设计）人： | 陈学森;李玉敏;赵玉国 | 申请（专利权）人： | 北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所） |
| 主分类号： | B24B37/00 | 分类号： | B24B37/00;B24B37/34;B24B41/02 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 王献茹 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 排水 导流面 抛光 排水孔 池壁 导流 抛光设备 一体式成型 基座结构 排水性能 抛光单元 平整面 收集池 | ||
1.一种抛光基座，其特征在于，包括设置有池壁的收集池，所述池壁的底部设置有第一排水导流面和第二排水导流面，其中，所述池壁、所述第一排水导流面和所述第二排水导流面一体式成型；
所述第一排水导流面和所述第二排水导流面均为平整面且两者之间的夹角小于180°；
所述第一排水导流面和所述第二排水导流面上均设置有排水孔和用于安装抛光单元的安装部；
其中，在所述第一排水导流面上，所述安装部所在的位置高于所述排水孔；在所述第二排水导流面上，所述安装部所在的位置高于所述排水孔。
2.根据权利要求1所述的抛光基座，其特征在于，所述第一排水导流面和所述第二排水导流面两者在一相交线处相交；
其中，相较于所述安装部，所述排水孔与所述相交线之间的距离更短。
3.根据权利要求1所述的抛光基座，其特征在于，所述收集池为对称结构，其包含一对称面；
其中，所述第一排水导流面和所述第二排水导流面关于所述对称面对称设置，所述安装部也关于所述对称面对称设置。
4.根据权利要求3所述的抛光基座，其特征在于，所述池壁包括一体式成型的前挡水板、圆弧形挡水板、侧挡水板和后挡水板；
其中，所述前挡水板与所述后挡水板均与所述对称面相交，所述圆弧形挡水板有偶数个且对称设置于所述对称面的两侧，所述侧挡水板有偶数个且对称设置于所述对称面的两侧。
5.根据权利要求4所述的抛光基座，其特征在于，所述收集池的下方设置有用于对其进行支撑的支撑部。
6.根据权利要求5所述的抛光基座，其特征在于，所述支撑部包括设置于所述前挡水板正下方的中间支撑板，其中，所述前挡水板和所述中间支撑板一体式成型。
7.根据权利要求5所述的抛光基座，其特征在于，所述支撑部包括设置于所述圆弧形挡水板正下方的圆柱形支撑柱，其中，所述圆弧形挡水板与所述圆柱形支撑柱一体式成型。
8.根据权利要求5所述的抛光基座，其特征在于，所述支撑部包括设置于所述侧挡水板正下方的侧支撑板，其中，所述侧挡水板与所述侧支撑板一体式成型。
9.根据权利要求5所述的抛光基座，其特征在于，所述支撑部包括设置于所述后挡水板正下方的后支撑板，其中，所述后挡水板与所述后支撑板一体式成型。
10.一种抛光设备，其特征在于，包括权利要求1-9中任一项所述的抛光基座。
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