[发明专利]一种抛光基座及抛光设备

说明书

本发明公开了一种抛光基座及抛光设备，包括设置有池壁的收集池，所述池壁的底部设置有第一排水导流面和第二排水导流面，其中，所述池壁、所述第一排水导流面和所述第二排水导流面一体式成型；所述第一排水导流面和所述第二排水导流面均为平整面且两者之间的夹角小于180°；所述第一排水导流面和所述第二排水导流面上均设置有排水孔和用于安装抛光单元的安装部；其中，在所述第一排水导流面上，所述安装部所在的位置高于所述排水孔；在所述第二排水导流面上，所述安装部在的位置高于所述排水孔。该抛光基座结构合理，排水性能好。

技术领域

本发明涉及抛光技术领域，尤其涉及一种抛光基座及抛光设备。

背景技术

化学机械抛光是常用于制造高密度集成电路的一种工艺，抛光过程中要使用大量的抛光液、纯净水及其他液体。

化学机械抛光设备包括有用于安装抛光盘的抛光基座，抛光过程中用到的液体及水需经抛光基座流出再由管道排走，但现有抛光基座结构不合理，排液(水)性能差。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术的缺陷，提供一种抛光基座及抛光设备，用以解决现有技术中的问题。

为解决上述问题，本发明提供了：一种抛光基座，包括设置有池壁的收集池，所述池壁的底部设置有第一排水导流面和第二排水导流面，其中，所述池壁、所述第一排水导流面和所述第二排水导流面一体式成型；

所述第一排水导流面和所述第二排水导流面均为平整面且两者之间的夹角小于180°；

所述第一排水导流面和所述第二排水导流面上均设置有排水孔和用于安装抛光单元的安装部；

其中，在所述第一排水导流面上，所述安装部所在的位置高于所述排水孔；在所述第二排水导流面上，所述安装部所在的位置高于所述排水孔。

作为上述技术方案的进一步改进，所述第一排水导流面和所述第二排水导流面两者在一相交线处相交；

其中，相较于所述安装部，所述排水孔与所述相交线之间的距离更短。

作为上述技术方案的进一步改进，所述收集池为对称结构，其包含一对称面；

其中，所述第一排水导流面和所述第二排水导流面关于所述对称面对称设置，所述安装部也关于所述对称面对称设置。

作为上述技术方案的进一步改进，所述池壁包括一体式成型的前挡水板、圆弧形挡水板、侧挡水板和后挡水板；

其中，所述前挡水板与所述后挡水板均与所述对称面相交，所述圆弧形挡水板有偶数个且对称设置于所述对称面的两侧，所述侧挡水板有偶数个且对称设置于所述对称面的两侧。

作为上述技术方案的进一步改进，所述收集池的下方设置有用于对其进行支撑的支撑部。

作为上述技术方案的进一步改进，所述支撑部包括设置于所述前挡水板正下方的中间支撑板，其中，所述前挡水板和所述中间支撑板一体式成型。

作为上述技术方案的进一步改进，所述支撑部包括设置于所述圆弧形挡水板正下方的圆柱形支撑柱，其中，所述圆弧形挡水板与所述圆柱形支撑柱一体式成型。

作为上述技术方案的进一步改进，所述支撑部包括设置于所述侧挡水板正下方的侧支撑板，其中，所述侧挡水板与所述侧支撑板一体式成型。

作为上述技术方案的进一步改进，所述支撑部包括设置于所述后挡水板正下方的后支撑板，其中，所述后挡水板与所述后支撑板一体式成型。

本发明还提供了：一种抛光设备，包括如上任一项所述的抛光基座。