[发明专利]晶圆洗刷装置在审

专利信息
申请号: 201811509094.X 申请日: 2018-12-10
公开(公告)号: CN109482538A 公开(公告)日: 2019-03-19
发明(设计)人: 赵宁;史霄;佀海燕;尹影 申请(专利权)人: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
主分类号: B08B1/04 分类号: B08B1/04;B08B3/12;B08B3/02;H01L21/67
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 陈治位
地址: 100176 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 上刷 晶圆 清洗平台 承载组件 驱动组件 洗刷装置 清洗 间隔设置 清洗设备 一端设置 后表面 上表面 上滚刷 摆动 滚刷 洗刷 种晶 污染物 缓解
【权利要求书】:

1.一种晶圆洗刷装置,其特征在于,包括:晶圆承载组件、上刷驱动组件和上刷清洗平台;

所述上刷清洗平台和所述晶圆承载组件间隔设置,所述上刷清洗平台用于清洗设置在所述上刷驱动组件上的上滚刷,所述上刷驱动组件的一端设置在所述晶圆承载组件靠近所述所述上刷清洗平台的一侧,且所述上刷驱动组件的另一端能够在所述上刷清洗平台表面和所述晶圆承载组件上表面之间摆动。

2.根据权利要求1所述的晶圆洗刷装置,其特征在于,所述上刷驱动组件包括第一安装架、第一驱动电机和所述上滚刷;

所述第一安装架的一端设置在所述晶圆承载组件上方,所述上滚刷设置在所述第一安装架的另一端,所述第一驱动电机设置在所述第一安装架靠近上滚刷的一侧,所述第一驱动电机通过第一传动件带动所述上滚刷转动。

3.根据权利要求2所述的晶圆洗刷装置,其特征在于,所述第一安装架包括第一转臂、第二转臂、导向轴、第一旋转支撑轴和第二旋转支撑轴;

所述第一旋转支撑轴和所述第二旋转支撑轴分别设置在所述第一转臂和所述第二转臂的外侧,所述第一旋转支撑轴和所述第二旋转轴支撑相对设置,所述导向轴穿过所述第一转臂和所述第二转臂与所述第一旋转支撑轴和所述第二旋转支撑轴连接,且所述导向轴设置在靠近所述晶圆承载组件的一端;

所述第一传动件设置在所述第一转臂和所述第二转臂之间且远离所述导向轴的一端,所述第一驱动电机设置在所述第一转臂远离所述第二转臂的一侧,所述第一传动件穿过所述第一转臂与所述第一驱动电机连接。

4.根据权利要求1所述的晶圆洗刷装置,其特征在于,所述上刷清洗平台包括安装台、定位凸起和清洗机构;

所述清洗机构设置在所述安装台远离所述晶圆承载组件的一端,所述定位凸起设置靠近所述清洗机构的一端,所述定位凸起用于与所述上滚刷抵接。

5.根据权利要求1所述的晶圆洗刷装置,其特征在于,所述晶圆洗刷装置还包括位于在所述晶圆承载组件中心下方的下刷驱动组件;

所述下刷驱动组件包括第一支撑架、下滚刷和第一驱动机构;所述第一驱动机构设置在所述第一支撑架远离所述晶圆承载组件的一端,所述下滚刷设置在所述第一支撑架靠近所述晶圆承载组件的一端,且与所述第一驱动机构连接,所述第一驱动机构用于与驱动所述下滚刷向靠近或远离所述晶圆承载组件的一端移动。

6.根据权利要求1所述的晶圆洗刷装置,其特征在于,所述晶圆承载组件包括至少三个晶圆转子;

至少三个所述晶圆转子呈三角形分布,晶圆设置安装在至少三个所述晶圆转子的顶端。

7.根据权利要求6所述的晶圆洗刷装置,其特征在于,所述晶圆转子为四个,四个所述晶圆转子呈矩形分布。

8.根据权利要求7所述的晶圆洗刷装置,其特征在于,其中三个所述晶圆转子包括第一转子主体和第二驱动电机,所述第二驱动电机驱动所述第一转子主体转动;

另一个所述晶圆转子包括第二转子主体、底座和速度传感器,所述第二转子主体可转动地设置在所述底座上,所述速度传感器设置在所述第二转子主体上。

9.根据权利要求1所述的晶圆洗刷装置,其特征在于,所述晶圆洗刷装置还包括兆声清洗组件;

所述兆声清洗组件设置在所述晶圆承载组件远离所述上刷清洗平台一侧,所述兆声清洗组件用于清洗设在所述晶圆承载组件上的晶圆。

10.根据权利要求9所述的晶圆洗刷装置,其特征在于,所述兆声清洗组件包括摆臂和喷嘴;

所述喷嘴设置在所述摆臂的一端,所述摆臂能够相对所述晶圆承载组件转动,以使所述喷嘴向靠近或远离所述晶圆承载组件一端移动。

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