[发明专利]一种高辉度高遮蔽的光学扩散膜及其制备方法在审
申请号: | 201811510821.4 | 申请日: | 2018-12-11 |
公开(公告)号: | CN109283605A | 公开(公告)日: | 2019-01-29 |
发明(设计)人: | 唐海江;李兵军;刘志鹏;赵东东;李刚;张彦 | 申请(专利权)人: | 宁波激智科技股份有限公司 |
主分类号: | G02B5/02 | 分类号: | G02B5/02 |
代理公司: | 北京策略律师事务所 11546 | 代理人: | 张华;钟志红 |
地址: | 315040 *** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 扩散膜 扩散 光学扩散膜 透明基材 高辉度 遮蔽 制备 大粒子 小粒子 遮蔽性 辉度 制备方法工艺 光学薄膜 光学性能 规则排列 涂布方式 上表面 下表面 分层 膜片 粒子 | ||
1.一种高辉度高遮蔽的光学扩散膜,其特征在于,所述扩散膜包括透明基材、扩散大粒子涂层、扩散小粒子涂层和保护涂层。
2.根据权利要求1所述的高辉度高遮蔽的光学扩散膜,其特征在于,所述扩散膜从上往下依次包括扩散大粒子涂层、扩散小粒子涂层、透明基材和保护涂层。
3.根据权利要求1所述的高辉度高遮蔽的光学扩散膜,其特征在于,所述扩散大粒子涂层包含扩散大粒子;所述扩散小粒子涂层包含扩散小粒子。
4.根据权利要求1所述的高辉度高遮蔽的光学扩散膜,其特征在于,所述扩散小粒子涂层包括胶粘剂和扩散小粒子,所述扩散小粒子通过胶粘剂粘结在透明基材的上表面。
5.根据权利要求1所述的高辉度高遮蔽的光学扩散膜,其特征在于,所述扩散大粒子涂层包括胶粘剂和扩散大粒子,所述扩散大粒子通过胶粘剂粘结在扩散小粒子涂层的上表面。
6.根据权利要求1所述的高辉度高遮蔽的光学扩散膜,其特征在于,所述扩散大粒子涂层包含胶粘剂和扩散大粒子,所述扩散大粒子的粒径为8-40μm,所述扩散大粒子的含量占胶粘剂含量的50-150%;所述扩散小粒子涂层包含份的扩散小粒子,所述扩散小粒子的粒径为1-5μm,所述扩散小粒子的含量占胶粘剂含量的50-150%;所述含量为重量百分含量。
7.根据权利要求1所述的高辉度高遮蔽的光学扩散膜,其特征在于,所述扩散大粒子涂层包含胶粘剂和扩散大粒子,所述扩散大粒子的粒径为15-30μm,所述扩散大粒子的含量占胶粘剂含量的100-120%,所述扩散大粒子涂层的胶粘剂选自聚氨酯,所述扩散大粒子选自聚氨酯或聚甲基丙烯酸甲酯;所述扩散小粒子涂层包含胶粘剂和扩散小粒子,所述扩散小粒子的粒径为3-5μm,所述扩散小粒子的含量占胶粘剂含量的80-120%;所述含量为重量百分含量。
8.根据权利要求1所述的高辉度高遮蔽的光学扩散膜,其特征在于,所述扩散大粒子涂层包含100质量份的胶粘剂和50-150质量份的扩散大粒子,所述扩散大粒子的粒径为8-40μm;所述扩散小粒子涂层包含100质量份的胶粘剂和50-150质量份的扩散小粒子,所述扩散小粒子的粒径为1-5μm;所述保护涂层包含100质量份的胶粘剂和0.5-5质量份的抗粘连粒子,所述抗粘连粒子的粒径为1-10μm。
9.根据权利要求1所述的高辉度高遮蔽的光学扩散膜,其特征在于,所述扩散大粒子涂层包含100质量份的胶粘剂和100-120质量份的扩散大粒子,所述扩散大粒子的粒径为15-30μm,所述扩散大粒子涂层的胶粘剂选自聚氨酯,所述扩散大粒子选自聚氨酯或聚甲基丙烯酸甲酯;所述扩散小粒子涂层包含100质量份的胶粘剂和80-120质量份的扩散小粒子,所述扩散小粒子的粒径为3-5μm;所述保护涂层包含100质量份的胶粘剂和1-3质量份的抗粘连粒子,所述抗粘连粒子的粒径为3-7μm。
10.一种根据权利要求1-9之一所述的高辉度高遮蔽的光学扩散膜的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括如下步骤:
(1)配制扩散小粒子涂层涂布液:按顺序依次加入胶黏剂、扩散小粒子搅拌均匀,并加入适量溶剂,调节涂布液粘度,以适于涂布工艺;
(2)制备扩散小粒子涂层:将步骤(1)所配置涂布液涂布在透明基材的一面,并置于80℃-100℃烘箱老化2-8小时;
(3)配制扩散大粒子涂层涂布液:按顺序依次加入胶黏剂、扩散大粒子搅拌均匀,并加入适量溶剂,调节涂布液粘度,以适于涂布工艺;
(4)制备扩散大粒子涂层:将步骤(3)所配置涂布液涂布在扩散小粒子涂层上,并置于80℃-100℃烘箱老化2-8小时;
(5)配制保护涂层涂布液:按顺序依次加入胶黏剂、抗粘连粒子搅拌均匀,并加入适量溶剂,调节涂布液粘度,以适于涂布工艺;
(6)制备保护涂层:将步骤(5)所配制涂布液涂布在透明基材的另一面,并置于80℃-100℃烘箱老化2-8小时。
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