[发明专利]一种高辉度高遮蔽的光学扩散膜及其制备方法

说明书

本发明涉及光学薄膜领域，具体涉及一种高辉度高遮蔽的光学扩散膜及其制备方法。为了解决现有扩散膜辉度高但遮蔽性差的问题，本发明提供一种高辉度高遮蔽的光学扩散膜及其制备方法。所述扩散膜包括透明基材、扩散大粒子涂层、扩散小粒子涂层和保护涂层；扩散大粒子涂层和扩散小粒子涂层设置在透明基材的上表面，保护涂层设置在透明基材的下表面。本发明提供的扩散膜不仅具有优异的扩散效果和光学性能，同时因扩散膜涂层中的大小粒子采用分层涂布方式而规则排列，提高膜片遮蔽性又不损失辉度，且制备方法工艺简单，易于操作。

技术领域

本发明涉及光学薄膜领域，更具体的涉及一种高辉度高遮蔽的光学扩散膜及其制备方法。

背景技术

近年来，随着液晶显示技术如平板电脑、笔记本电脑及电视等不断兴起，消费者对显示画面图像要求也越来越高。一部优质的显示器件不仅需要清晰地显示画面，还要求色彩鲜明，图像不失真等，因此作为显示器件中光学部分的背光模组显得至关重要。光学扩散膜作为背光模组中的重要组成部分，对显示器件的最终图像画面起着决定性作用。目前，行业内扩散膜普遍采用大小粒子通过胶黏剂载体混合搅拌，再涂布在基板上烘烤制得。此种扩散膜具有较好的辉度表现，但无法兼顾膜片的遮蔽性能，不能遮盖膜片本身或导光板上的一些缺陷。

针对此问题，行业内常采用往涂层中增加扩散粒子比例方式以提高膜片遮蔽性，但会大幅损失辉度，且增加粒子比例后存在裁切掉屑等风险。因此，开发一种既能保持材料物理性能，又可以兼顾高辉度及高遮蔽性的扩散膜是本领域的发展方向。

发明内容

为了解决现有扩散膜辉度高但遮蔽性差的问题，本发明提供一种高辉度高遮蔽的光学扩散膜及其制备方法。本发明提供的扩散膜不仅具有优异的扩散效果和光学性能，同时因扩散膜涂层中的大小粒子采用分层涂布方式而规则排列，提高膜片遮蔽性又不损失辉度，且制备方法工艺简单，易于操作。

为了解决上述技术问题，本发明采用下述技术方案：

本发明提供一种高辉度高遮蔽的光学扩散膜，所述扩散膜包括透明基材、扩散大粒子涂层、扩散小粒子涂层和保护涂层。扩散大粒子涂层和扩散小粒子涂层设置在透明基材的上表面，保护涂层设置在透明基材的下表面。所述扩散小粒子涂层设置在扩散大粒子涂层和透明基材之间。

进一步的，所述扩散膜从上往下依次包括扩散大粒子涂层、扩散小粒子涂层、透明基材和保护涂层。

进一步的，所述扩散大粒子涂层包含扩散大粒子。

进一步的，所述扩散小粒子涂层包含扩散小粒子。

进一步的，所述保护涂层包含抗粘连粒子。

进一步的，所述扩散小粒子涂层包括胶粘剂和扩散小粒子。所述扩散小粒子通过胶粘剂粘结在透明基材的上表面。

进一步的，所述扩散大粒子涂层包括胶粘剂和扩散大粒子。所述扩散大粒子通过胶粘剂粘结在扩散小粒子涂层的上表面。

进一步的，所述保护涂层包括胶粘剂和抗粘连粒子。所述抗粘连粒子通过胶粘剂粘结在透明基材的下表面。

进一步的，所述透明基材选自聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯(PS)、聚酰胺树脂(PA)中的一种。进一步的，所述透明基材选自聚对苯二甲酸乙二醇酯。

进一步的，所述透明基材的厚度为25-400μm。进一步的，所述透明基材的厚度为60-80μm、90-160μm或180-300μm。一步的，所述透明基材的厚度为75-250μm。进一步的，所述透明基材的厚度为188μm。