[发明专利]一种显示面板的制备方法、显示面板及显示装置有效

专利信息
申请号: 201811519363.0 申请日: 2018-12-12
公开(公告)号: CN109560115B 公开(公告)日: 2020-09-22
发明(设计)人: 邹建华;徐苗;陶洪;王磊;李洪濛;刘文聪;徐华;李民;彭俊彪 申请(专利权)人: 广州新视界光电科技有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/52
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 孟金喆
地址: 510700 广东省广州市*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 显示 面板 制备 方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示面板的制备方法,所述显示面板包括多个像素,每个所述像素至少包括红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素,其特征在于,所述显示面板的制备方法包括:

提供衬底;

在所述衬底上形成位于所述红色子像素的红光反射电极、位于所述绿色子像素的绿光反射电极和位于所述蓝色子像素的蓝光反射电极;

在所述红光反射电极远离所述衬底一侧的表面形成透明绝缘层,其中,所述透明绝缘层的面积小于所述红光反射电极的面积;

在所述透明绝缘层、未被所述透明绝缘层覆盖的所述红光反射电极以及所述绿光反射电极远离所述衬底一侧的表面形成透明导电层;

在相邻的子像素之间形成像素定义层;

在所述透明导电层以及所述蓝光反射电极远离所述衬底一侧的表面形成有机发光结构,其中,所述有机发光结构至少包括有机发光层;

在所述有机发光结构远离所述衬底一侧的表面形成阴极;

在所述阴极远离所述衬底的一侧形成封装层。

2.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在所述透明导电层以及所述蓝光反射电极远离所述衬底一侧的表面形成有机发光结构,包括:

在所述像素定义层之间的区域蒸镀形成所述有机发光结构。

3.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在所述有机发光结构远离所述衬底一侧的表面形成阴极,包括:

形成覆盖所述有机发光结构和所述像素定义层的整面阴极。

4.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述阴极为透明电极或半透明电极。

5.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述透明绝缘层的厚度h1满足如下公式:

所述透明导电层的厚度h2满足如下公式:

所述有机发光结构的厚度d满足如下公式:

其中,m为模数,λ1为红光的中心波长,λ2为绿光的中心波长,λ3为蓝光的中心波长,no为所述有机发光结构的折射率,n1为所述透明绝缘层的折射率,n2为所述透明导电层的折射率,θ1为红光在所述红光反射电极和所述阴极表面的反射相移之和,θ2为绿光在所述绿光反射电极和所述阴极表面的反射相移之和,θ3为蓝光在所述蓝光反射电极和所述阴极表面的反射相移之和。

6.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述透明绝缘层的材料为SiO2、SiNx或光刻胶;所述透明导电层的材料为ITO、AZO或IZO。

7.一种显示面板,所述显示面板包括多个像素,每个所述像素至少包括红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素,其特征在于,所述显示面板还包括:

衬底;

反射电极层,形成在所述衬底上,包括位于所述红色子像素的红光反射电极、位于所述绿色子像素的绿光反射电极和位于所述蓝色子像素的蓝光反射电极;

透明绝缘层,位于所述红光反射电极远离所述衬底一侧的表面,所述透明绝缘层的面积小于所述红光反射电极的面积;

透明导电层,位于所述透明绝缘层、未被所述透明绝缘层覆盖的所述红光反射电极以及所述绿光反射电极远离所述衬底一侧的表面;

像素定义层,形成在相邻的子像素之间;

有机发光结构,位于所述透明导电层以及所述蓝光反射电极远离所述衬底一侧的表面,所述有机发光结构至少包括有机发光层;

阴极,位于所述有机发光结构远离所述衬底一侧的表面;

封装层,位于所述阴极远离所述衬底的一侧。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广州新视界光电科技有限公司,未经广州新视界光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811519363.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top