[发明专利]基片处理装置、基片处理方法和存储介质

权利要求书

1.一种基片处理装置，其能够在从外部向壳体内送入基片起至将该基片送出外部的准备就绪为止或者至基片被交接到外部的运送装置为止的一个循环期间中，为了对基片进行处理而对该基片照射光，

所述基片处理装置的特征在于，包括：

设置于所述壳体内的基片的载置部；

能够对载置于所述载置部的基片照射光的光源部，其发光状态因温度而改变；和

控制部，其以如下方式输出控制信号：当将预先决定的所述一个循环的时间称为循环时间，并将为了对基片进行处理而对该基片照射光的时间段称为处理时间段时，在所述一个循环之中所述处理时间段以外的时间段使所述光源部空闲发光，根据所述处理时间段的照射区域的照度来调节空闲发光时的照射区域的照度，从而使基片间的所述一个循环内的照射区域的平均照度成为一定。

2.如权利要求1所述的基片处理装置，其特征在于：

当将所述一个循环结束后至下个一个循环开始为止的时间段称为待机时间段时，预先设定了所述待机时间段的照射区域的照度，

调节所述空闲发光时的照射区域的照度，使得所述一个循环的照射区域的平均照度与所述待机时间段的照射区域的平均照度一致。

3.如权利要求2所述的基片处理装置，其特征在于：

所述控制部具有如下功能：基于所述待机时间段的照射区域的照度、所述循环时间、所述处理时间段的时间、该处理时间段的照射区域的照度和进行所述空闲发光的时间，来求取所述空闲发光时的照射区域的照度。

4.如权利要求2或3所述的基片处理装置，其特征在于：

所述待机时间段的照射区域的照度、所述处理时间段的时间和进行所述空闲发光的时间是预先决定的值，

所述控制部构成为能够基于所述预先决定的值和作为变量的所述处理时间段的照射区域的照度，来求取所述空闲发光时的照射区域的照度。

5.如权利要求2或3所述的基片处理装置，其特征在于：

能够根据环境温度的变化来调节所述待机时间段的照射区域的照度。

6.如权利要求1至3的任一项所述的基片处理装置，其特征在于：

进行所述空闲发光的时间被设定为比所述处理时间段的时间长。

7.一种基片处理方法，其能够在从外部向壳体内送入基片起至将该基片送出外部的准备就绪为止或者基片被交接到外部的运送装置为止的一个循环期间中，为了对基片进行处理，从发光状态因温度而变化的光源部对该基片照射光，

所述基片处理方法的特征在于：

当将预先决定的所述一个循环的时间称为循环时间，并将为了对基片进行处理而对该基片照射光的时间段称为处理时间段时，在所述一个循环之中所述处理时间段以外的时间段使所述光源部空闲发光，根据所述处理时间段的照射区域的照度调节空闲发光时的照射区域的照度，使得基片间的所述一个循环内的照射区域的平均照度成为一定的。

8.如权利要求7所述的基片处理方法，其特征在于：

将所述一个循环结束后至下个一个循环开始为止的时间段称为待机时间段，

在所述待机时间段中从所述光源部发光，使得能够在所述一个循环和所述待机时间段抑制所述光源部的温度变化。

9.如权利要求8所述的基片处理方法，其特征在于：

能够根据环境温度的变化来调节所述待机时间段的照射区域的照度。

10.一种存储介质，其存储有在基片处理装置中使用的计算机程序，其中，所述基片处理装置在从外部向壳体内送入基片起至将该基片送出外部的准备就绪为止或者基片被送出到外部为止的一个循环期间，为了对基片进行处理而对该基片照射光，

所述存储介质的特征在于：

所述计算机程序中包括命令，用以执行权利要求7至9的任一项所述的基片处理方法。