[发明专利]一种半球谐振陀螺镀膜空间运动装置在审
申请号: | 201811521859.1 | 申请日: | 2018-12-13 |
公开(公告)号: | CN109628904A | 公开(公告)日: | 2019-04-16 |
发明(设计)人: | 朱蓓蓓;兰洁;申振丰;许剑锋;陈肖;郭凌曦;程辉;袁超;孙晴晗 | 申请(专利权)人: | 上海航天控制技术研究所 |
主分类号: | C23C14/50 | 分类号: | C23C14/50 |
代理公司: | 上海航天局专利中心 31107 | 代理人: | 圣冬冬 |
地址: | 201109 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半球谐振 陀螺 自转 摆动 摆动电机 镀膜空间 公转电机 运动装置 自转电机 卡具 齿条驱动齿轮 镀膜均匀性 钢丝绳 仰角 镀膜过程 方向独立 公转运动 公转轴系 上下移动 生产效率 向上摆动 向下摆动 旋转转换 摆动轴 公转盘 全表面 一次性 中空间 自转轴 拨叉 成膜 镀膜 可调 停顿 合格率 | ||
本专利公开了一种半球谐振陀螺镀膜空间运动装置,该装置包含:公转电机、自转电机、摆动电机,公转电机通过公转轴系与公转盘相连实现公转运动。自转电机通过自转轴系与卡具相连,通过弹力钢丝绳实现全角度自转。摆动电机通过摆动轴系将旋转转换成上下移动,通过拨叉带动齿条驱动齿轮实现工件摆动。本发明可实现半球谐振陀螺镀膜过程中空间运动,全表面一次性成膜,集公转、自转和摆动三种运动于一体,且公转速度、自转速度与自转方向独立可调,向上摆动速度、向下摆动速度、摆动仰角和上、下停顿时间均可按需要随意设定,提高镀膜均匀性,解决了半球谐振陀螺镀膜合格率低的问题,提高生产效率。
技术领域
本发明涉及半球谐振陀螺镀膜空间运动装置,特别涉及半球谐振陀螺镀膜领域。
背景技术
采用传统真空镀膜设备转架,仅能实现公转+自转的功能,无摆动功能,且无法独立控制公转与自转的转速。对于半球谐振陀螺零件各个表面镀膜无法一次成膜,不能实现一次装夹完成真空镀膜,需要对零件进行多次镀膜。因此,采用常用的传统方式对半球谐振陀螺零件镀膜均匀性差,合格率难以控制,效率低。
发明内容
本发明目的在于设计一种半球谐振陀螺镀膜空间运动装置,该装置包含公转系统、自转系统、摆动系统和真空室;所述公转系统包括,公转电机,所述公转电机通过公转轴系与公转盘相连实现公转运动;所述自传系统包括,自传电机,所述自转电机通过自转轴系与卡具相连,通过弹力钢丝绳实现全角度自转运动;所述摆动系统包括,摆动电机,所述摆动电机通过摆动轴系将旋转转换成上下移动实现工件摆动;所述真空室内设置有工件固定装置,所述真空室内的工件固定装置通过传动杆与所述公转系统、所述自传系统和所述摆动系统连接。
优选的,所述自传系统的自转速度可调并可独立控制。
优选的,所述摆动电机通过拨叉带动齿条驱动齿轮,将旋转转换成工件摆动。
优选的,所述传动杆与所述真空室的连接处安装动密封装置,保证真空室气密性。
本发明的有益效果是:
1.可实现工件空间多维运动,包括:公转、自转、摆动、自转+公转、自转+摆动、公转+摆动、公转+自转+摆动等多种空间运动。
2.本装置在真空镀膜生产中,实现了公转速度、自转速度与自转方向独立可调,向上摆动速度、向下摆动速度、摆动仰角和上、下停顿时间均可按需要随意设定,精确控制膜层厚度,提高膜层均匀性。
3.本装置实现了工件多种转动方式的独立运动与联动,对被镀工件表面形状复杂、精确控制膜层厚度等难题提出了很好的解决方向。实现一次性装夹全表面镀膜,保证了工件表面膜层覆盖率与膜层厚度均匀性。
附图说明
图1是半球谐振陀螺镀膜空间运动装置示意图;
图2是半球谐振陀螺镀膜空间运动装置俯视图;
图3是公转系统示意图;
图4是自转系统示意图;
图5是摆动系统示意图。
1-自转传动输入,2-公转传动输入,3-摆动传动输入,4-自转系统,5-公转系统,6-摆动系统,7-传动机构,8-夹具座,9-监控装置,10-转动电极,11-转动电极,12-齿轮,13-直线轴承,14-摆动从动齿轮,15-摆动主动齿轮,16-公转盘,17-钢丝夹具座,18-齿轮齿条,19-转向夹板,20-固定螺母,21-工件
具体实施方式
以下结合附图对本发明作进一步的描述。
实施例
下面结合实施例对本发明作进一步的说明。本发明包含以下内容,但并不仅限于以下内容。
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