[发明专利]一种背光检中缺陷显示方法在审

专利信息
申请号: 201811524227.0 申请日: 2018-12-13
公开(公告)号: CN109613004A 公开(公告)日: 2019-04-12
发明(设计)人: 陈武;张胜森;郑增强 申请(专利权)人: 武汉精立电子技术有限公司
主分类号: G01N21/88 分类号: G01N21/88
代理公司: 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 代理人: 胡琦旖
地址: 430070 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 缺陷图 缺陷显示 背光 第一区域 图档 缺陷检测技术 缺陷检测系统 工作效率 缺陷评估 缺陷坐标 人眼疲劳 时间成本 性能测试 增强处理 截取 放大 绘制 缓解
【权利要求书】:

1.一种背光检中缺陷显示方法,其特征在于,包括以下步骤:

根据AOI检测得到的缺陷坐标信息,在BLU图档中截取第一区域,获得第一缺陷图;

对所述第一缺陷图进行放大或增强处理,得到第二缺陷图;

将所述第二缺陷图绘制于所述BLU图档的所述第一区域中,得到缺陷显示图。

2.根据权利要求1所述的背光检中缺陷显示方法,其特征在于,在BLU图档中截取第一区域之前,还包括以下步骤:

在BLU图档的显示区域内绘制九宫格线。

3.根据权利要求1所述的背光检中缺陷显示方法,其特征在于,所述根据AOI检测得到的缺陷坐标信息,在BLU图档中截取第一区域具体为:获取缺陷的坐标中心点,从所述坐标中心点向外扩充m个像素点,截取大小为2m*2m的第一区域。

4.根据权利要求1所述的背光检中缺陷显示方法,其特征在于,对所述第一缺陷图进行放大或增强处理包括:

根据所述第一缺陷图获取缺陷面积;

将所述缺陷面积与预设像素进行比较,若小于所述预设像素,则对所述第一缺陷图进行放大处理。

5.根据权利要求4所述的背光检中缺陷显示方法,其特征在于,所述放大处理采用双线性插值算法。

6.根据权利要求1所述的背光检中缺陷显示方法,其特征在于,对所述第一缺陷图进行放大或增强处理包括:

根据所述第一缺陷图获取缺陷对比度;

将所述缺陷对比度与预设灰阶差进行比较,若小于所述预设灰阶差,则对所述第一缺陷图进行增强处理。

7.根据权利要求6所述的背光检中缺陷显示方法,其特征在于,所述增强处理采用区域灰度拉伸。

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