[发明专利]蒸镀方法、电子设备的制造方法及蒸镀装置

说明书

本发明提供一种即使基板大型化也能够抑制膜模糊的蒸镀方法、电子设备的制造方法以及蒸镀装置。在本发明的蒸镀方法中，使基板以直立的状态定位，并且在基板的主面侧配置由多个长条状掩模(310)构成的掩模，通过相对于这些基板及掩模而移动的蒸发源，经由分别形成于多个长条状掩模(310)的多个开口部(311)，在上述基板的主面实施成膜，其特征在于，多个开口部(311)均由矩形的开口构成，在进行成膜时，使上述蒸发源在与开口部(311)的长边方向一致的方向上移动。

技术领域

本发明涉及在基板上形成膜的蒸镀方法、电子设备的制造方法以及蒸镀装置。

背景技术

近年来，在有机EL等电子设备中，基板的大型化正在推进。因此，当在基板上形成膜时，无法忽视因基板或掩模的自重而引起的挠曲。即，若在基板或掩模挠曲的状态下在基板上形成有机膜，则会产生如设置于掩模的开口部的形状及尺寸那样的未成膜的所谓的“膜模糊”。因此，例如，在显示装置等中，作为膜模糊的结果，导致混色的发生和亮度的降低，难以实现图像的高精细化。

因此，作为基板的挠曲对策，开发了在使基板直立的状态下进行蒸镀的技术，作为掩模的挠曲对策，开发了排列配置多个长条状掩模的技术等。

但是，没有发现为了抑制膜模糊而综合考虑多个条件的技术，尚有改良的余地。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：韩国公开专利第10-2018-7430号公报

发明内容

本发明的目的在于提供一种即使基板大型化也能够抑制膜模糊的蒸镀方法、电子设备的制造方法以及蒸镀装置。

用于解决课题的手段

本发明为了解决上述课题而采用了以下的手段。

本发明的蒸镀方法为如下的蒸镀方法，

使基板以直立的状态定位，并且在基板的主面侧配置由多个长条状掩模构成的掩模，通过相对于这些基板及掩模移动的蒸发源，经由分别形成于多个所述长条状掩模的多个开口部，在所述基板的主面实施成膜，其特征在于，

多个所述开口部均由矩形的开口构成，

在进行成膜时，使所述蒸发源在与所述开口部的长边方向一致的方向上移动。

另外，本发明的其他的蒸镀方法是如下的蒸镀方法，

使基板以直立的状态定位，并且在基板的主面侧配置由多个长条状掩模构成的掩模，通过相对于这些基板及掩模移动的蒸发源，经由分别形成于多个所述长条状掩模的多个开口部，在所述基板的主面实施成膜，其特征在于，

以形成在所述长条状掩模的长边方向上排列的列的方式设置多个所述蒸发源，并且，一边使多个所述蒸发源在与所述基板的主面平行且相对于所述长条状掩模的长边方向垂直的方向上移动一边实施成膜。

并且，本发明的电子设备的制造方法的特征在于，具有：

将基板及掩模搬送到设置有蒸发源的腔室内的工序；以及

使用上述任一项所述的蒸镀方法在所述基板上形成有机膜的工序。

另外，本发明的蒸镀装置具备：

基板定位机构，其使基板以直立的状态定位；

掩模定位机构，其在由所述基板定位机构定位了的基板的主面侧配置由多个长条状掩模构成的掩模；以及

蒸发源移动机构，其使蒸发源与由所述基板定位机构定位了的基板的主面平行且直线地移动，