[发明专利]一种不锈钢表面碳纳米带防腐层的制备方法在审
申请号: | 201811533262.9 | 申请日: | 2018-12-14 |
公开(公告)号: | CN109554683A | 公开(公告)日: | 2019-04-02 |
发明(设计)人: | 郑晓航;鲜怡;蔡逸飞;杨雅倩;蔡伟 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
主分类号: | C23C16/02 | 分类号: | C23C16/02;C23C16/26;C23C16/513;H01M8/021;H01M8/0213;H01M8/0228 |
代理公司: | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 | 代理人: | 岳泉清 |
地址: | 150001 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 不锈钢表面 制备 防腐层 碳纳米带 氩气 压强 甲烷气体 射频电源 射频功率 刻蚀 不锈钢 沉积 等离子体增强化学气相沉积 高温燃料电池 不锈钢材料 耐腐蚀性能 加热电源 燃料电池 使用寿命 酸性环境 真空冷却 真空装置 抽真空 | ||
1.一种不锈钢表面碳纳米带防腐层的制备方法,其特征在于一种不锈钢表面碳纳米带防腐层的制备方法是按以下步骤进行的:
一、将不锈钢置于等离子体增强化学气相沉积真空装置中,抽真空至压强为5Pa~10Pa,通入氩气,调节氩气的气体流量为50sccm~90sccm,调节等离子体增强化学气相沉积真空装置中压强为200Pa~400Pa,在10min~30min将温度升温至600℃~800℃,然后调节射频功率为100W~200W,在压强为200Pa~400Pa、温度为600℃~800℃及射频功率为100W~200W的条件下,对不锈钢表面进行刻蚀处理,处理时间为5min~15min;
二、刻蚀结束后,关闭射频电源,通入氩气及甲烷气体,调节氩气气体流量为50sccm~90sccm,调节甲烷气体流量为10sccm~30sccm,将等离子体增强化学气相沉积真空装置中压强调节为100Pa~500Pa,在压强为100Pa~500Pa、温度为600℃~800℃及射频功率为50W~200W的条件下进行沉积,沉积时间为20min~60min;
三、沉积结束后,关闭射频电源和加热电源,停止通入甲烷气体和氩气,真空冷却至室温,即完成不锈钢表面碳纳米带防腐层的制备方法。
2.根据权利要求1所述的一种不锈钢表面碳纳米带防腐层的制备方法,其特征在于步骤一中所述的不锈钢为316L不锈钢、304不锈钢或321不锈钢。
3.根据权利要求1所述的一种不锈钢表面碳纳米带防腐层的制备方法,其特征在于步骤一中所述的不锈钢厚度为0.2mm~0.5mm。
4.根据权利要求1所述的一种不锈钢表面碳纳米带防腐层的制备方法,其特征在于步骤一中将不锈钢置于等离子体增强化学气相沉积真空装置中,抽真空至压强为5Pa~8Pa,通入氩气,调节氩气的气体流量为50sccm~60sccm,调节等离子体增强化学气相沉积真空装置中压强为300Pa~400Pa,在20min~30min将温度升温至600℃~700℃,然后调节射频功率为150W~200W。
5.根据权利要求1所述的一种不锈钢表面碳纳米带防腐层的制备方法,其特征在于步骤一中在压强为300Pa~400Pa、温度为600℃~700℃及射频功率为150W~200W的条件下,对不锈钢表面进行刻蚀处理,处理时间为5min~10min。
6.根据权利要求1所述的一种不锈钢表面碳纳米带防腐层的制备方法,其特征在于步骤一中将不锈钢置于等离子体增强化学气相沉积真空装置中,抽真空至压强为8Pa~10Pa,通入氩气,调节氩气的气体流量为60sccm~90sccm,调节等离子体增强化学气相沉积真空装置中压强为200Pa~300Pa,在10min~20min将温度升温至700℃~800℃,然后调节射频功率为100W~150W。
7.根据权利要求1所述的一种不锈钢表面碳纳米带防腐层的制备方法,其特征在于步骤一中在压强为200Pa~300Pa、温度为700℃~800℃及射频功率为100W~150W的条件下,对不锈钢表面进行刻蚀处理,处理时间为10min~15min。
8.根据权利要求1所述的一种不锈钢表面碳纳米带防腐层的制备方法,其特征在于步骤二中调节氩气气体流量为50sccm~80sccm,调节甲烷气体流量为10sccm~15sccm,将等离子体增强化学气相沉积真空装置中压强调节为100Pa~400Pa。
9.根据权利要求1所述的一种不锈钢表面碳纳米带防腐层的制备方法,其特征在于步骤二中调节氩气气体流量为80sccm~90sccm,调节甲烷气体流量为15sccm~30sccm,将等离子体增强化学气相沉积真空装置中压强调节为400Pa~500Pa。
10.根据权利要求1所述的一种不锈钢表面碳纳米带防腐层的制备方法,其特征在于步骤二中在压强为100Pa~400Pa、温度600℃~700℃及射频功率100W~200W的条件下进行沉积,沉积时间为20min~40min。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的