[发明专利]膜材料及锂电极片基材涂布加工方法

权利要求书

1.一种膜材料及锂电极片基材涂布加工方法，包括以膜材料及锂电极片基材为加工对象的涂布基材，采用狭缝式涂布方法，对涂布单元的涂布基材进行涂布，其特征是采用恒温镜面辊为涂布装置，于涂布单元内设有按涂布基材和涂液相匹配对应的温度控制装置；同时控制涂布单元的温度范围为20-80℃。

2.根据权利要求1所述的一种膜材料及锂电极片基材涂布加工方法，其特征是所述恒温镜面辊的恒温方式采用非接触式恒温设计，恒温镜面辊采用辅助恒温系统进行温度控制。

3.根据权利要求1或2所述的一种膜材料及锂电极片基材涂布加工方法，其特征是所述恒温镜面辊控制其温度均匀性控制在±1℃范围内。

4.根据权利要求1或2所述的一种膜材料及锂电极片基材涂布加工方法，其特征是所述恒温镜面辊控制其加工精度的直线度、跳动、同轴度≤0.002mm；粗糙度Ra<0.01。

5.根据权利要求2所述的一种膜材料及锂电极片基材涂布加工方法，其特征是所述辅助恒温系统是使用冷媒冷热循环控制方式进行控制。

6.根据权利要求1或2所述的一种膜材料及锂电极片基材涂布加工方法，其特征是所述恒温镜面辊应用于条缝涂布背辊，通过恒温镜面辊达到对基材、涂液及条缝模具进行恒温目的。

7.根据权利要求1或2所述的一种膜材料及锂电极片基材涂布加工方法，其特征是所述基材通过包裹背加热辊而改善表面张力，及贴附背辊平整度，保证通过预热基材恒温条件下完成与涂液结合，利用恒温镜面辊的辐射热量加热涂液温度。