[发明专利]发光单元的制备方法及发光单元有效

专利信息
申请号: 201811535309.5 申请日: 2018-12-14
公开(公告)号: CN111326637B 公开(公告)日: 2021-05-25
发明(设计)人: 张豪峰 申请(专利权)人: 云谷(固安)科技有限公司
主分类号: H01L33/44 分类号: H01L33/44;H01L33/00
代理公司: 北京布瑞知识产权代理有限公司 11505 代理人: 孟潭
地址: 065000 河*** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 发光 单元 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种发光单元的制备方法,其特征在于,包括:

在衬底上设置至少一个发光器件;

在所述至少一个发光器件中的每个发光器件周围设置沟槽;

在所述衬底的远离所述发光器件的一侧,形成与所述沟槽对应的预设厚度的不透明图案,其中所述不透明图案的宽度大于所述沟槽的宽度;

利用激光从所述衬底的远离所述发光器件的一侧进行照射,以在所述发光器件的边缘产生衍射而形成半剥离区域,从而使得所述衬底与所述发光器件剥离。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述不透明图案的宽度与所述沟槽的宽度的差值为所述激光的波长的0.1倍至2倍。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述不透明图案为圆形、正方形或长方形。

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述圆形的圆心位于所述沟槽的中点位置,并且所述圆形的直径与所述沟槽的宽度的差值为所述激光的波长的0.1倍至2倍。

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述在衬底形成预设厚度的不透明图案,包括:

在所述衬底远离所述发光器件的一侧涂布光阻层;

从所述发光器件的一侧通过所述沟槽对所述光阻层进行曝光,以形成所述不透明图案。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法,其特征在于,所述预设厚度的不透明图案为预设厚度的金属掩膜图案。

7.根据权利要求1至5中任一项所述的方法,其特征在于,所述预设厚度的取值范围为所述激光的波长的0.1倍至2倍。

8.根据权利要求1至5中任一项所述的方法,其特征在于,所述衬底为蓝宝石衬底。

9.根据权利要求1至5中任一项所述的方法,其特征在于,所述发光器件与所述衬底之间还包括氮化镓层,所述利用激光从所述衬底的远离所述发光器件的一侧进行照射,以在所述发光器件的边缘产生衍射而形成半剥离区域包括:

利用所述激光从所述衬底的远离所述发光器件的一侧进行照射,以在所述氮化镓层与所述衬底接触的边缘产生衍射以形成半剥离区域。

10.一种发光单元,其特征在于,包括:

衬底;

至少一个发光器件,所述至少一个发光器件设置在所述衬底上,并且在所述至少一个发光器件的每个发光器件的周围设置有沟槽;

不透明图案,所述不透明图案与所述沟槽对应并设置在所述衬底远离所述至少一个发光器件的一侧,所述不透明图案的宽度大于所述沟槽的宽度,用于在激光剥离中使激光在所述发光器件的边缘发生衍射而形成半剥离区域,从而使得所述衬底与所述发光器件剥离。

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