[发明专利]一种表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜在审
申请号: | 201811541668.1 | 申请日: | 2018-12-17 |
公开(公告)号: | CN111320941A | 公开(公告)日: | 2020-06-23 |
发明(设计)人: | 金国华 | 申请(专利权)人: | 浙江欣麟新材料技术有限公司 |
主分类号: | C09J7/29 | 分类号: | C09J7/29 |
代理公司: | 宿迁市永泰睿博知识产权代理事务所(普通合伙) 32264 | 代理人: | 陈栋 |
地址: | 321102 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 表面 修复 功能 强度 指纹识别 光电 保护膜 | ||
1.一种表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜,其特征在于,自上而下依次包括树脂保护膜层、第一硅胶层、硬化层、基膜层、第二硅胶层及树脂离型膜层,所述第一硅胶层为保护硅胶层,所述第二硅胶层为安装硅胶层,其中所述硬化层的厚度为1-50μm,在TL84光源下观察的彩虹纹特征为低彩虹表观,所述的硬化层加硬液为聚氨酯系列、丙烯酸酯系列或环氧聚酯系列中的一种或几种的混合物。
2.根据权利要求1所述的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜,其特征在于,所述树脂保护膜层的材质为在150℃环境下热收缩率小于0.3%的光学塑料薄膜,材质为PC、ABS、PMMA、COP、PP、SRF或PET光学塑料薄膜中的一种,厚度为25-360μm;所述树脂离型膜层的材质为在150℃环境下热收缩率小于0.3%的光学塑料薄膜,材质为PC、ABS、PMMA、COP、PP、SRF或PET光学塑料薄膜中的一种,厚度为25-360μm。
3.根据权利要求1所述的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜,其特征在于,所述第一硅胶层的厚度为4-30μm,剥离力为1-30g,与硬化层的撕离力为0.5-10g,透光率为87%-96%,雾度范围为0.2%-3.5%。
4.根据权利要求1所述的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜,其特征在于,所述基膜层的材质为PC、ABS、PMMA、COP、PP、SRF或PET光学塑料薄膜中的一种,在Re和Rth两个方向的相位差小于30nm,厚度为25-360μ。
5.根据权利要求1所述的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜,其特征在于,所述第二硅胶层的厚度为8-80μm,与115°水滴角的液晶屏的贴合撕离力大于15g,剥离力为2-800g,透光率为88%-96%,雾度为0.2%-2.5%。
6.根据权利要求1所述的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜,其特征在于,其中树脂保护膜层的材质为PC,厚度为50-188μm;所述第一硅胶层的厚度为8-15μm,与硬化层的剥离力为1.5-20g,与硬化层的撕离力为0.5-4g,透光率为88.5%-92.5%,雾度范围为0.5%-2.5%;所述硬化层的厚度为2-25μm,表面水滴角为75-130°,表面油滴角为大于45°;所述基膜层的材质为PC,厚度的50-188μm;所述第二硅胶层的厚度为15-45μm,与115°水滴角的液晶屏的贴合撕离力大于20g,剥离力为50-300g,透光率为89.5%-92.5%,雾度为.5%-1.5%;所述树脂离型膜层的材质为PC,厚度为50-188μm。
7.根据权利要求1所述的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜,其特征在于,所述基膜层为PC基膜层,所述PC基膜层的至少一侧涂布有防腐蚀易接着层,所述防腐蚀易接着层的材质为聚酯、聚氨酯、丙烯酸、有机硅中的一种或多种的组合。
8.根据权利要求7任一所述的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜,其特征在于,所述PC基膜层包括双层PC基膜,双层PC基膜之间通过黏胶层粘合在一起,所述黏胶层为光学级的丙烯酸压敏胶、聚氨酯胶、聚酯胶和OCA胶中的一种或多种的组合,粘合力500-5000g,透光率为88%-96%,雾度范围为0.1%-2.5%。
9.根据权利要求8任一所述的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜,其特征在于,所述黏胶层为光学级的OCA胶,剥离力范围为500-3000g,剥离力范围为1000-2000g,透光率为91.5%-95.5%,雾度范围为0.15%-0.5%。
10.根据权利要求1至9任一所述的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜,其特征在于,所述硬化层加硬液为聚氨酯系列,所述加硬液为低收缩率的高清型加硬液,所述加硬液涂布在树脂保护膜层上,依此经加热固化成型、高压成型和UV成型,所述硬化层的表面硬度为1-9H。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江欣麟新材料技术有限公司,未经浙江欣麟新材料技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811541668.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。