[发明专利]一种表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜在审

专利信息
申请号: 201811541668.1 申请日: 2018-12-17
公开(公告)号: CN111320941A 公开(公告)日: 2020-06-23
发明(设计)人: 金国华 申请(专利权)人: 浙江欣麟新材料技术有限公司
主分类号: C09J7/29 分类号: C09J7/29
代理公司: 宿迁市永泰睿博知识产权代理事务所(普通合伙) 32264 代理人: 陈栋
地址: 321102 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 表面 修复 功能 强度 指纹识别 光电 保护膜
【说明书】:

发明公开一种表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜,自上而下依次包括树脂保护膜层、第一硅胶层、硬化层、基膜层、第二硅胶层及树脂离型膜层,所述第一硅胶层为保护硅胶层,所述第二硅胶层为安装硅胶层,其中所述硬化层的厚度为1‑50μm,在TL84光源下观察的彩虹纹特征为低彩虹表观,所述的硬化层加硬液为聚氨酯系列、丙烯酸酯系列或环氧聚酯系列中的一种或几种的混合物。本发明的保护膜通过采用带自修复功能的特殊加硬层,该加硬层固化后的涂膜表面高清晰透亮,爽滑性优异,超疏水疏油,表面耐油笔污染,具有很好的抗指甲、铜刷划伤性,微划痕自修复性。

技术领域

本发明属于保护膜技术领域,具体涉及一种表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜。

发明内容

本发明旨在提供一种表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜。

本发明的第一个发明目的在于提供一种表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜,自上而下依次包括树脂保护膜层、第一硅胶层、硬化层、基膜层、第二硅胶层及树脂离型膜层,所述第一硅胶层为保护硅胶层,所述第二硅胶层为安装硅胶层,其中所述硬化层的厚度为1-50μm,在TL84光源下观察的彩虹纹特征为低彩虹表观,所述的硬化层加硬液为聚氨酯系列、丙烯酸酯系列或环氧聚酯系列中的一种或几种的混合物。

进一步地,本发明的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜,所述树脂保护膜层的材质为在150℃环境下热收缩率小于0.3%的光学塑料薄膜,材质为PC、ABS、PMMA、COP、PP、SRF或PET光学塑料薄膜中的一种,厚度为25-360μm;所述树脂离型膜层的材质为在150℃环境下热收缩率小于0.3%的光学塑料薄膜,材质为PC、ABS、PMMA、COP、PP、SRF或PET光学塑料薄膜中的一种,厚度为25-360μm。

进一步地,本发明的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜,所述第一硅胶层的厚度为4-30μm,剥离力为1-30g,与硬化层的撕离力为0.5-10g,透光率为87%-96%,雾度范围为0.2%-3.5%。

进一步地,本发明的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜,所述基膜层的材质为PC、ABS、PMMA、COP、PP、SRF或PET光学塑料薄膜中的一种,在Re和Rth两个方向的相位差小于30nm,厚度为25-360μ。

进一步地,本发明的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜,所述第二硅胶层的厚度为8-80μm,与115°水滴角的液晶屏的贴合撕离力大于15g,剥离力为2-800g,透光率为88%-96%,雾度为0.2%-2.5%。

进一步地,本发明的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜,其中树脂保护膜层的材质为PC,厚度为50-188μm;所述第一硅胶层的厚度为8-15μm,与硬化层的剥离力为1.5-20g,与硬化层的撕离力为0.5-4g,透光率为88.5%-92.5%,雾度范围为0.5%-2.5%;所述硬化层的厚度为2-25μm,表面水滴角为75-130°,表面油滴角为大于45°;所述基膜层的材质为PC,厚度的50-188μm;所述第二硅胶层的厚度为15-45μm,与115°水滴角的液晶屏的贴合撕离力大于20g,剥离力为50-300g,透光率为89.5%-92.5%,雾度为.5%-1.5%;所述树脂离型膜层的材质为PC,厚度为50-188μm。

进一步地,本发明的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜,所述基膜层为PC基膜层,所述PC基膜层的至少一侧涂布有防腐蚀易接着层,所述防腐蚀易接着层的材质为聚酯、聚氨酯、丙烯酸、有机硅中的一种或多种的组合。

进一步地,本发明的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜,所述PC基膜层包括双层PC基膜,双层PC基膜之间通过黏胶层粘合在一起,所述黏胶层为光学级的丙烯酸压敏胶、聚氨酯胶、聚酯胶和OCA胶中的一种或多种的组合,粘合力500-5000g,透光率为88%-96%,雾度范围为0.1%-2.5%。

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