[发明专利]具有高光利用率的光线投射装置在审
申请号: | 201811542010.2 | 申请日: | 2018-12-17 |
公开(公告)号: | CN111322579A | 公开(公告)日: | 2020-06-23 |
发明(设计)人: | 王正 | 申请(专利权)人: | 诚益光电科技股份有限公司 |
主分类号: | F21S41/141 | 分类号: | F21S41/141;F21S41/148;F21S41/30;F21W102/13 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 陈鹏;王博 |
地址: | 中国*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 利用率 光线 投射 装置 | ||
1.一种具有高光利用率的光线投射装置,其特征在于,所述具有高光利用率的光线投射装置包括:
一承载单元;
一第一光源,所述第一光源设置于所述承载单元上,且包括至少一个第一发光单元以及一与所述第一发光单元对应设置的第一反射单元,其中所述第一发光单元具有一第一出光面;
一第二光源,所述第二光源设置于所述承载单元上,且包括至少一个第二发光单元以及一与所述第二发光单元对应设置的第二反射单元,其中所述第二发光单元具有一第二出光面;
一遮光单元,所述遮光单元设置于所述承载单元的前方,用以选择性地遮挡从所述第一光源与所述第二光源出射的光线;以及
一透镜,所述透镜设置于所述遮光单元的前方,用以将通过所述遮光单元的光线向外投射,而产生一远光灯或近光灯光型;
其中,所述第一出光面的出光方向与所述第二出光面的出光方向相反,且所述第一出光面与所述第二出光面共平面。
2.根据权利要求1所述的具有高光利用率的光线投射装置,其特征在于,所述第一出光面与所述第二出光面之间具有一垂直距离,且所述垂直距离介于0毫米至5毫米之间。
3.根据权利要求1所述的具有高光利用率的光线投射装置,其特征在于,所述透镜具有一透镜光轴,且所述透镜光轴通过所述第一出光面的附近与第二出光面的附近。
4.根据权利要求1所述的具有高光利用率的光线投射装置,其特征在于,所述透镜具有一透镜光轴,且所述透镜光轴通过所述第一出光面与所述第二出光面。
5.根据权利要求1所述的具有高光利用率的光线投射装置,其特征在于,所述承载单元包括一隔板,所述隔板具有位于不同侧的一第一承载面以及一第二承载面。
6.根据权利要求5所述的具有高光利用率的光线投射装置,其特征在于,所述隔板具有贯穿所述第一承载面与所述第二承载面的至少一个第一开口以及至少一个第二开口,其中,所述第一反射单元设置于所述第一承载面上,所述第一发光单元设置于所述第二承载面附近,且所述第一出光面通过所述第一开口从所述第一承载面外露,所述第二反射单元设置于所述第二承载面上,所述第二发光单元设置于所述第一承载面附近,且所述第二出光面通过所述第二开口从所述第二承载面外露。
7.根据权利要求6所述的具有高光利用率的光线投射装置,其特征在于,所述遮光单元为一遮光板,所述遮光板为不透光材质,且沿着所述隔板的长度方向延伸,其中,所述遮光板具有一与所述隔板的所述第一承载面位于同侧的顶部表面。
8.根据权利要求7所述的具有高光利用率的光线投射装置,其特征在于,所述顶部表面包括一第一平面、一第二平面以及一斜面,所述顶部表面的所述第一平面高于所述顶部表面的所述第二平面,且所述顶部表面的所述斜面连接于所述顶部表面的所述第一平面与所述第二平面之间。
9.根据权利要求7所述的具有高光利用率的光线投射装置,其特征在于,所述遮光板与所述隔板一体成型。
10.根据权利要求5所述的具有高光利用率的光线投射装置,其特征在于,所述遮光单元为一遮光体,所述遮光体为透光材质,且沿着所述隔板的厚度方向延伸,其中,所述遮光体具有一与所述隔板的所述第二承载面位于同侧的底部表面。
11.根据权利要求10所述的具有高光利用率的光线投射装置,其特征在于,所述遮光体的所述底部表面包括一第一平面、一第二平面以及一斜面,所述底部表面的所述第一平面高于所述底部表面的所述第二平面,且所述底部表面的所述斜面连接于所述底部表面的所述第一平面与所述第二平面之间。
12.根据权利要求10所述的具有高光利用率的光线投射装置,其特征在于,所述遮光体与所述隔板之间具有一预定距离,且所述预定距离介于0.01毫米至1毫米之间。
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