[发明专利]一种高遮盖性的光学薄膜

权利要求书

1.一种高遮盖性的光学薄膜，包括透明支持体以及在所述透明支持体任一表面涂覆的硬化层，所述硬化层是由包含单体、有机粒子和有机溶剂在内的涂布液涂布在透明支持体上，经不同温度的多级烘箱干燥、紫外光固化而成，其特征在于，所述有机粒子裸露在所述硬化层外表面的高度H1为所述有机粒子平均粒径D1的1/4～5/6；

所述单体的官能度介于1～3，所述单体的粘度为500cps以下，所述单体的分子量为300g/mol以下；

所述有机溶剂包括第一有机溶剂和第二有机溶剂，所述第一有机溶剂的沸点为85℃以下，所述第一有机溶剂的比挥发速率为160以上；所述第二有机溶剂的沸点介于110℃～150℃，所述第二有机溶剂的比挥发速率介于50～160。

2.根据权利要求1所述的光学薄膜，其特征在于，所述多级烘箱为五级烘箱，温度设置分别为：第一级烘箱温度介于110℃～140℃，第二级烘箱温度介于150℃～180℃，第三级烘箱温度介于110℃～140℃，第四级烘箱温度介于150℃～180℃，第五级烘箱温度介于50℃～100℃。

3.根据权利要求1所述的光学薄膜，其特征在于，所述硬化层是由含有粒子的涂布液经紫外光固化形成，制备涂布液的组分及其重量份为：聚氨酯丙烯酸酯低聚物15份～40份，单体5份～25份，光引发剂0.50份～5份，流平助剂0.50份～1份，有机粒子0.1份～5份，第一有机溶剂15份～30份，第二有机溶剂15份～30份。

4.根据权利要求1所述的光学薄膜，其特征在于，所述单体包括丙烯酸烷基酯、丙烯酸羟基酯、乙二醇类二丙烯酸酯、丙二醇类二丙烯酸酯或三丙烯酸酯中的一种。

5.根据权利要求1所述的光学薄膜，其特征在于，所述第一有机溶剂和所述第二有机溶剂均选自苯类、醇类、酮类、醚类或酯类中的一种或两种混合。

6.根据权利要求1所述的光学薄膜，其特征在于，所述有机粒子包括单分散、中分散或多分散中的一种，粒径介于1μm～8μm。

7.根据权利要求6所述的光学薄膜，其特征在于，所述有机粒子包括聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚丙烯酸甲酯或聚丙烯酸丁酯中的一种或几种。

8.根据权利要求7所述的光学薄膜，其特征在于，所述硬化层的厚度介于1μm～5μm。

9.根据权利要求8所述的光学薄膜，其特征在于，所述光学薄膜的雾度介于2％～50％。