[发明专利]一种高遮盖性的光学薄膜

说明书

本发明给出了一种高遮盖性的光学薄膜，包括透明支持体以及透明支持体任一表面涂覆的硬化层，所述硬化层中有机粒子裸露在硬化层外表面高度H1为有机粒子平均粒径D1的1/4～5/6。本发明通过硬化层涂布液中单体、有机粒子、有机溶剂的选择性使用，在特定烘箱干燥条件下，制备出的硬化层表面粒子上浮，提高薄膜遮盖性，可有效避免薄膜表面的短划伤、杂质点、灰尘等瑕疵的显现。本发明制备的光学薄膜，可以广泛应用于各类硬化膜、保护膜、复合膜等各个领域。

技术领域

本发明涉及薄膜技术领域，特别涉及一种高遮盖性的光学薄膜。

背景技术

随着显示技术的发展，液晶显示器已然随处可见，而每一部液晶显示器都会使用到多张光学薄膜器件，所以优化光学薄膜的各种效用显得尤为重要。然而，市场上应用的光学薄膜存在遮盖性不好的缺陷，很难遮盖器件之间的灰尘、杂质点等微小缺陷，尤其是一些低雾度的光学薄膜。

目前，专门针对光学薄膜遮盖性进行改善的技术方向不一，其中主流技术是改进光学薄膜涂层面的组成成分。中国专利CN102759761A公开了一种高遮盖高辉度的光学薄膜，该光学薄膜包含透明基板，透明基板的两个表面均设置有扩散涂层且两个扩散涂层具有相同的成分，其扩散涂层的扩散粒子包括有机大扩散粒子、有机小扩散粒子和无机扩散粒子，扩散层固化后的厚度是有机大扩散粒子粒径的1/5-4/5，以达到高遮盖高辉度的效果。中国专利CN107422530A公开了一种高遮盖高亮度的雾化膜制备方法，该雾化膜包括透明基材层、聚光层和雾化层，其中重点提到雾化层包括胶黏剂、有机扩散粒子和无机扩散粒子，雾化层的厚度为最大扩散粒子的1/10-2/3，进而制备的雾化膜具有较好的遮盖性和更高的亮度表现，用来克服现在的扩散板亮度损失大和遮盖性一般的缺点。

以上专利所叙述的技术方案通过对涂布液中较多添加量的有机扩散粒子和无机扩散粒子比例的调节来改进扩散膜的遮盖性，但其涂布液制备工序复杂，并且扩散膜涂层中的有机粒子和无机粒子添加量较多，若用来改善各类硬化膜、保护膜、复合膜等产品的遮盖性，其涂层中粒子添加量较少，分散的均匀性受到限制，存在一些缺陷。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是针对现有技术存在的问题，提供一种高遮盖性的光学薄膜，由其制备出的硬化层表面粒子上浮，薄膜遮盖性好，可有效避免薄膜表面的短划伤、杂质点、灰尘等瑕疵的显现。

为解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案：

一种高遮盖性的光学薄膜，包括透明支持体以及在所述透明支持体任一表面涂覆的硬化层，所述硬化层是由包含单体、有机粒子和有机溶剂在内的涂布液涂布在透明支持体上，经不同温度的多级烘箱干燥、紫外光固化而成，所述有机粒子裸露在所述硬化层外表面的高度H1为所述有机粒子平均粒径D1的1/4～5/6；

所述单体的官能度介于1～3，所述单体的粘度为500cps以下，所述单体的分子量为300g/mol以下；

所述有机溶剂包括第一有机溶剂和第二有机溶剂，所述第一有机溶剂的沸点为85℃以下，所述第一有机溶剂的比挥发速率为160以上；所述第二有机溶剂的沸点介于110℃～150℃，所述第二有机溶剂的比挥发速率介于50～160。

上述高遮盖性的光学薄膜，所述多级烘箱为五级烘箱，温度设置分别为：第一级烘箱温度介于150℃～180℃，第二级烘箱温度介于110℃～140℃，第三级烘箱温度介于150℃～180℃，第四级烘箱温度介于110℃～140℃，第五级烘箱温度介于50℃～100℃。

上述高遮盖性的光学薄膜，所述硬化层是由含有粒子的涂布液经紫外光固化形成，涂布液含有的组分及其重量份为：聚氨酯丙烯酸酯低聚物15份～40份，单体5份～25份，光引发剂0.50份～5份，流平助剂0.50份～1份，有机粒子0.1份～5份，第一有机溶剂15份～30份，第二有机溶剂15份～30份。