[发明专利]具有高附着力的超疏水涂层及其制备方法以及电子产品在审
申请号: | 201811549966.5 | 申请日: | 2018-12-18 |
公开(公告)号: | CN109650738A | 公开(公告)日: | 2019-04-19 |
发明(设计)人: | 梁子辉;王世敏;董兵海;程凡;赵丽;万丽;王二静;李静 | 申请(专利权)人: | 湖北大学 |
主分类号: | C03C17/245 | 分类号: | C03C17/245 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 覃蛟 |
地址: | 430062 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 超疏水涂层 高附着力 纳米二氧化硅 官能团修饰 低表面能 电子产品 制备 基材表面 修饰 等离子体增强化学气相沉积 等离子增强 化学沉积法 表面附着 附着力强 化学修饰 透光性能 反射率 透光性 涂覆 | ||
本发明涉及一种具有高附着力的超疏水涂层及其制备方法以及电子产品,该具有高附着力的超疏水涂层的制备包括:利用低表面能官能团修饰剂对基材表面的纳米二氧化硅涂层进行化学修饰,其中,纳米二氧化硅涂层通过等离子体增强化学气相沉积法制备得到。该电子产品,其表面附着有上述具有高附着力的超疏水涂层。通过采用等离子增强化学沉积法单独涂覆形成纳米二氧化硅,进而使得具有高附着力的超疏水涂层能够在基材表面的附着力强。再对稳定的纳米二氧化硅涂层通过低表面能官能团修饰剂进行修饰,降低光的反射率,又降低了低表面能官能团修饰剂对纳米二氧化硅涂层修饰过程对透光性的影响,从而提高了具有高附着力的超疏水涂层的透光性能。
技术领域
本发明涉及防水材料技术领域,具体而言,涉及一种具有高附着力的超疏水涂层及其制备方法以及电子产品。
背景技术
随着社会的快速发展,工业发达,使得人们的生活越来越好。然而,在这些工业迅速发展的同时,也给人们生活带来了不可忽视的负面影响。尤其是现在存在的各种污染随处可见,其中空气中越来越多的粉尘显得格外突出。污染物经常吸附一些暴露在空气中的建筑玻璃墙面经常需要需要人工去清理,这不仅仅会浪费大量的人力和财力,而且会给清洁工人们带来一定的危险。此时,如果能在这些暴露在空气中的物体表面加以一些自清洁涂层是非常有必要的。目前,研究发现,要想达到自清洁的效果,主要可以从超疏水和超亲水两个方面来解决。超亲水达到自清洁效果的原理是,当水接触在超亲水涂层表面上时,由于水与超亲水涂层表面水接触角非常小(水接触角≤10°)时,水将会快速的在超亲水的表面延展开,以一种水薄膜的形式存在。这将会带走表面灰尘等脏物从而达到自清洁的效果;超疏水达到自清洁效果的原理是,当水接触在超疏水涂层表面时,由于水与超疏水涂层表面水接触角非常大(水接触角≥150°)时,水会在涂层表面以水珠形式存在,具有很大的滚动角,会迅速滚动滑落。同样会带走表面灰尘等脏物从而达到自清洁的效果。
同时,高科技产业也在迅猛地发展,电子产品更是经历了一轮又一轮的更新换代。然而,水一直是电子设备的天敌,最大的致命伤就算其内部元件一旦进水或受潮,将造成无法挽救的地步。生活中常见的带有透明显示屏的电子产品也因水而导致损坏也是司空见惯的现象。如手机、手表、电脑、室外广告显示屏,游泳池水下效果灯等都经常出现进水而损坏的现象。但现有技术通常采用带有疏水功能的涂料直接涂覆在基材表面,因此,存在附着力差,透光性差的问题。
发明内容
本发明的目的之一在于提供一种具有附着力强,光学透过率高的具有高附着力的超疏水涂层。
进一步地,本发明的目的还在于提供上述具有高附着力的超疏水涂层的制备方法,其制备工艺过程简单,工艺条件温和。
更进一步地,本发明的目的还在于提供一种电子产品,其具有较佳的防水性能。
本发明解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。
本发明提供了一种具有高附着力的超疏水涂层的制备方法,其包括:利用低表面能官能团修饰剂对基材表面的纳米二氧化硅涂层进行化学修饰,其中,纳米二氧化硅涂层通过等离子体增强化学气相沉积法制备得到。
本发明还提供了一种具有高附着力的超疏水涂层,其由上述具有高附着力的超疏水涂层的制备方法制备得到。
本发明还提供了一种电子产品,其表面附着有上述具有高附着力的超疏水涂层。
通过采用等离子增强化学沉积法单独涂覆形成纳米二氧化硅,进而使得具有高附着力的超疏水涂层能够在基材表面的附着力强。再对稳定的纳米二氧化硅涂层通过低表面能官能团修饰剂进行修饰,使得低表面官能团修饰剂只作用于纳米二氧化硅涂层表面而不会作用于其涂层内部,既达到了降低光的反射率,又降低了低表面能官能团修饰剂对纳米二氧化硅涂层透光性的降低,从而提高了具有高附着力的超疏水涂层的透光性能。
附图说明
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