[发明专利]一种选择性催化还原反应器装置在审
申请号: | 201811552519.5 | 申请日: | 2018-12-18 |
公开(公告)号: | CN109433004A | 公开(公告)日: | 2019-03-08 |
发明(设计)人: | 高飞;邹红果;王长清;宋云鹏 | 申请(专利权)人: | 大唐环境产业集团股份有限公司 |
主分类号: | B01D53/86 | 分类号: | B01D53/86;B01D53/56 |
代理公司: | 北京君泊知识产权代理有限公司 11496 | 代理人: | 王程远;胡玉章 |
地址: | 100048 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 反应器入口 斜顶 整流装置 选择性催化还原反应器 水平进口烟道 竖直烟道 顶面 催化剂反应器 反应器出口 直角梯形状 安装结构 高效运行 设计结构 施工安装 纵向截面 倾斜面 下倾斜 整流板 竖直 烟气 催化剂 | ||
1.一种选择性催化还原反应器装置,其特征在于,所述选择性催化还原反应器装置的纵向截面呈直角梯形状,且所述选择性催化还原反应器装置的顶部为斜面,其内部竖直烟道自上而下依次设有斜顶反应器入口(2)、整流装置(4)、催化剂反应器(5)和反应器出口(6),所述斜顶反应器入口(2)还连接有水平进口烟道(1);所述斜顶反应器入口(2)的顶面为倾斜面,且其倾斜起始位置在竖直烟道内部,沿远离水平进口烟道(1)的方向朝下倾斜;所述整流装置(4)的末端与所述斜顶反应器入口(2)的顶面末端在竖直方向上留有距离;整流装置(4)不同区域采用的整流板间距不同。
2.根据权利要求1所述的选择性催化还原反应器装置,其特征在于,所述整流装置(4)的末端为沿远离水平进口烟道(1)的一端,且所述整流装置(4)的末端和所述斜顶反应器入口(2)的顶面末端都位于竖直烟道内壁上。
3.根据权利要求1所述的选择性催化还原反应器装置,其特征在于,所述整流装置(4)依次由两段不同倾角的倾斜段和一段水平段组成,且所述整流装置(4)的高度沿远离水平进口烟道(1)的方向递增,所述整流装置(4)末端的高度不低于300mm。
4.根据权利要求3所述的选择性催化还原反应器装置,其特征在于,所述斜顶反应器入口(2)的顶面倾斜起始位置距离竖直烟道内壁的水平距离为Lx,且Lx>0;整流装置(4)不同区域采用的整流板间距不同,远离水平进口烟道(1)侧的1~5片整流板之间的间距为G2,其他区域的整流板间距为G1,且G1≥G2;所述斜顶反应器入口(2)的顶面末端高于所述整流装置(4)的末端顶部H3,且W/3≥H3>0,其中W为水平进口烟道(1)的高度。
5.根据权利要求4所述的选择性催化还原反应器装置,其特征在于,所述整流装置(4)起始端底部低于水平进口烟道(1)底部设置,且整流装置第一倾斜段的倾斜起始位置与水平进口烟道(1)底部平齐。
6.根据权利要求5所述的选择性催化还原反应器装置,其特征在于,所述整流装置(4)的高度H沿烟气进入选择性催化还原反应器装置的方向发生以下变化:
当0<L<L1时,H=L/L1×H1+H0;
当L1<L<L2时,H=(L-L1)×(H2-H1)/(L2-L1)+H1+H0;
当L2<L<L0时,H=H0+H2;
其中,L为从整流装置起始端到整流装置某一点的水平距离;
L1为从整流装置起始端到整流装置第一倾斜段末端的水平距离;
L2为从整流装置起始端到整流装置第二倾斜段末端的水平距离;
L0为从整流装置起始端到整流装置末端的水平距离;
H0为整流装置在水平进口烟道以下的垂直高度;
H1为整流装置第一倾斜段末端在水平进口烟道以上的垂直高度;
H2为整流装置第二倾斜段末端在水平进口烟道以上的垂直高度。
7.根据权利要求6所述的选择性催化还原反应器装置,其特征在于,所述斜顶反应器入口(2)的顶面倾斜角为β,且β>0,tanβ=(W-H2-H3)/(L0-Lx)。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大唐环境产业集团股份有限公司,未经大唐环境产业集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811552519.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。