[发明专利]一种曝光参数的确定方法、确定装置及终端设备

权利要求书

1.一种曝光参数的确定方法，其特征在于，包括：

获取曝光设备的至少一组参考曝光参数；

分别根据每组参考曝光参数对第一样品进行曝光，得到与每组参考曝光参数对应的曝光图形；

分别对所述每组参考曝光参数对应的曝光图形进行量测获得量测结果，并根据该量测结果确定所述曝光设备的标准曝光参数；

所述参考曝光参数包括：

所述曝光设备的焦距、掩膜板的压力值和载物台平坦度；

所述分别对所述每组参考曝光参数对应的曝光图形进行量测获得量测结果，并根据该量测结果确定所述曝光设备的标准曝光参数，包括：

按照预设规则将每组参考曝光参数对应的曝光图形划分为至少一个区域，并将所述每组参考曝光参数对应的曝光图形上位置相同的区域标记为同一类；

分别对所述每组参考曝光参数对应的曝光图形上的每个区域进行量测；

根据量测结果，从所述每组参考曝光参数对应的曝光图形中分别找出每一类区域对应的目标曝光产品；

根据所述每一类区域对应的目标曝光产品，确定所述曝光设备的标准曝光参数。

2.如权利要求1所述的曝光参数的确定方法，其特征在于，所述根据所述每一类区域对应的目标曝光产品，确定所述曝光设备的标准曝光参数，包括：

将所述每一类区域对应的目标曝光产品在该类区域的参考曝光参数作为该类区域的标准曝光参数。

3.如权利要求1所述的曝光参数的确定方法，其特征在于，在根据该量测结果确定所述曝光设备的标准曝光参数之后，还包括：

根据所述标准曝光参数对第二样品进行曝光，得到至少一个与所述标准曝光参数对应的曝光图形，并统计所述与所述标准曝光参数对应的曝光图形的良率；

若所述与所述标准曝光参数对应的曝光图形的良率小于预设良率，则分别对每个与所述标准曝光参数对应的曝光图形进行量测获得量测结果，并根据该量测结果重新确定所述曝光设备的标准曝光参数。

4.如权利要求1所述的曝光参数的确定方法，其特征在于，所述获取曝光设备的至少一组参考曝光参数，包括：

将所述掩膜板的压力值调整到预设范围内；

根据所述预设范围内的各掩膜板的压力值生成帕森曲线图，并将所述帕森曲线图显示给用户；

接收用户根据所述帕森曲线图确定的掩膜板的压力值，并将该掩膜板的压力值标记为所述参考曝光参数。

5.一种曝光参数的确定装置，其特征在于，包括：

获取单元，用于获取曝光设备的至少一组参考曝光参数；

曝光单元，用于分别根据每组参考曝光参数对第一样品进行曝光，得到与每组参考曝光参数对应的曝光图形；

确定单元，用于分别对所述每组参考曝光参数对应的曝光图形进行量测获得量测结果，并根据该量测结果确定所述曝光设备的标准曝光参数；

所述参考曝光参数包括：

所述曝光设备的焦距、掩膜板的压力值和载物台平坦度；

所述确定单元包括：

划分模块，用于按照预设规则将每组参考曝光参数对应的曝光图形划分为至少一个区域，并将所述每组参考曝光参数对应的曝光图形上位置相同的区域标记为同一类；

量测模块，用于分别对所述每组参考曝光参数对应的曝光图形上的每个区域进行量测；

查找模块，用于根据量测结果，从所述每组参考曝光参数对应的曝光图形中分别找出每一类区域对应的目标曝光产品；

确定模块，用于根据所述每一类区域对应的目标曝光产品，确定所述曝光设备的标准曝光参数。

6.一种终端设备，包括存储器、处理器以及存储在所述存储器中并可在所述处理器上运行的计算机程序，其特征在于，所述处理器执行所述计算机程序时实现如权利要求1至4任一项所述方法的步骤。