[发明专利]一种曝光参数的确定方法、确定装置及终端设备

说明书

本申请提供了一种曝光参数的确定方法、确定装置及终端设备，包括：获取曝光设备的至少一组参考曝光参数；分别根据每组参考曝光参数对第一样品进行曝光，得到与每组参考曝光参数对应的曝光图形；分别对所述每组参考曝光参数对应的曝光图形进行量测获得量测结果，并根据该量测结果确定所述曝光设备的标准曝光参数。通过本申请中的技术方案，能够有效减少因光能量的不平衡而造成曝光产品的色差。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种曝光参数的确定方法、确定装置及终端设备。

背景技术

液晶显示器(LCD，Liquid Crystal Display)制备工艺中，主要有阵列工序、面板成型工序和模组构装工序这三个重要工序。其中，阵列工序主要是制造TFT(Thin FilmTransistor，薄膜晶体管)基板及CF(color filter，彩色滤光片)基板。在阵列工序中，需要将掩膜板上的图形转移到涂布好的玻璃基板上，即曝光。

在曝光过程中，曝光机的焦距、曝光机载物台的平坦度和掩膜板的水平度都会直接影响到曝片的质量，其中任意一个参数不佳，都有可能因光能量的不平衡而造成液晶显示器的色差。

申请内容

有鉴于此，本申请实施例提供了一种曝光参数的确定方法、确定装置及终端设备，以解决因光能量的不平衡而造成曝光产品的色差的问题。

本申请实施例的第一方面提供了一种曝光参数的确定方法，包括：

获取曝光设备的至少一组参考曝光参数；

分别根据每组参考曝光参数对第一样品进行曝光，得到与每组参考曝光参数对应的曝光图形；

分别对所述每组参考曝光参数对应的曝光图形进行量测获得量测结果，并根据该量测结果确定所述曝光设备的标准曝光参数。

本申请实施例的第二方面提供了一种曝光参数的确定装置，包括：

获取单元，用于获取曝光设备的至少一组参考曝光参数；

曝光单元，用于分别根据每组参考曝光参数对第一样品进行曝光，得到与每组参考曝光参数对应的曝光图形；

确定单元，用于分别对所述每组参考曝光参数对应的曝光图形进行量测获得量测结果，并根据该量测结果确定所述曝光设备的标准曝光参数。

本申请实施例的第三方面提供了一种终端设备，包括存储器、处理器以及存储在所述存储器中并可在所述处理器上运行的计算机程序，所述处理器执行所述计算机程序时实现本发明实施例第一方面提供的所述方法的步骤。

本申请通过获取曝光设备的至少一组参考曝光参数；分别根据每组参考曝光参数对第一样品进行曝光，得到与每组参考曝光参数对应的曝光图形；分别对所述每组参考曝光参数对应的曝光图形进行量测获得量测结果，并根据该量测结果确定所述曝光设备的标准曝光参数，能够有效减少因光能量的不平衡而造成曝光产品的色差。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例或范例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本申请实施例提供的曝光参数的确定方法的实现流程示意图；

图2是本申请实施例提供的曝光参数的确定装置的示意图；

图3是本申请实施例提供的帕森曲线示意图；

图4是本申请实施例提供的曝光参数确定前后的损失率统计表；

图5是本申请实施例提供的曝光参数确定前后的良率对比图；