[发明专利]真空系统、基板输送系统、电子设备的制造装置以及电子设备的制造方法

权利要求书

1.一种真空系统，用于对进行对准的空间进行真空排气，其特征在于，包括：

用于对所述空间进行排气的低温泵；

设置在所述空间与所述低温泵之间的连接开闭单元；

用于控制所述连接开闭单元的开闭动作的控制单元，

所述控制单元，在所述空间中进行所述对准的期间中的至少一部分期间，以关闭所述连接开闭单元的方式进行控制。

2.根据权利要求1所述的真空系统，其特征在于，还包括连接所述连接开闭单元和所述空间的配管部。

3.根据权利要求1或2所述的真空系统，其特征在于，还包括用于将所述空间真空排气至比由所述低温泵排气的真空压力高的压力的排气用泵。

4.一种基板输送系统，用于输送基板，其特征在于，包括：

真空容器；

与所述真空容器连接的低温泵；

配置在所述真空容器与所述低温泵之间的连接开闭单元；

进行配置在所述真空容器内的基板的对准的对准机构；

用于控制所述连接开闭单元的开闭动作的控制单元，

所述控制单元，在所述真空容器内进行所述基板的对准的期间中的至少一部分期间，以关闭所述连接开闭单元的方式进行控制。

5.根据权利要求4所述的基板输送系统，其特征在于，

还包括在所述真空容器内支承所述基板的基板支承台，

所述控制单元在将所述基板放置在所述基板支承台上之后，以关闭所述连接开闭单元的方式进行控制。

6.根据权利要求4所述的基板输送系统，其特征在于，

还包括在所述真空容器内支承所述基板的基板支承台，

所述控制单元在对所述基板进行对准之后，以打开所述连接开闭单元的方式进行控制。

7.根据权利要求4所述的基板输送系统，其特征在于，所述基板输送系统是如下的系统，即，与连接有多个成膜室的输送室连接，在所述基板的输送方向上，在比所述输送室靠上游侧的位置输送所述基板。

8.根据权利要求4所述的基板输送系统，其特征在于，还包括配管部，该配管部的一端与所述真空容器连接，另一端与所述连接开闭单元连接。

9.根据权利要求8所述的基板输送系统，其特征在于，所述配管部在比所述真空容器的中央部更靠近设置于所述真空容器的基板搬出口侧或基板搬入口侧的位置，与所述真空容器连接。

10.根据权利要求4所述的基板输送系统，其特征在于，还包括用于将所述真空容器内真空排气至比由所述低温泵排气的真空压力高的压力的排气用泵。

11.根据权利要求4所述的基板输送系统，其特征在于，

还包括在所述真空容器内支承所述基板的基板支承台，

所述对准机构包括用于驱动所述基板支承台的基板支承台驱动机构，和用于取得表示基板相对于所述真空容器的位置的基板位置信息的基板位置信息取得单元。

12.根据权利要求11所述的基板输送系统，其特征在于，所述控制单元根据表示所述真空容器内的基准位置的基准位置信息以及所述基板位置信息计算基板的位置偏移量，基于所述位置偏移量来控制所述基板支承台驱动机构。

13.根据权利要求12所述的基板输送系统，其特征在于，用于取得所述基准位置的基准标记相对于所述真空容器固定地设置。

14.根据权利要求11所述的基板输送系统，其特征在于，所述基板支承台驱动机构设置在所述真空容器的铅垂方向的下方的大气侧。

15.根据权利要求11所述的基板输送系统，其特征在于，所述基板位置信息取得单元包括照相机。