[发明专利]光罩清洗系统及方法有效
申请号: | 201811565516.5 | 申请日: | 2018-12-20 |
公开(公告)号: | CN110824833B | 公开(公告)日: | 2023-09-05 |
发明(设计)人: | 郑威昌;廖啟宏 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82;B08B3/02;B08B3/08;B08B13/00 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国 |
地址: | 中国台湾新竹市*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 清洗 系统 方法 | ||
1.一种光罩清洗方法,其特征在于,包含:
旋转一光罩;
朝着该光罩移动一离子产生器与一静电荷感测器;
将一清洗液体喷射至该光罩上;
在旋转该光罩期间使用该静电荷感测器侦测该光罩上的一静电荷值;
根据侦测到的该静电荷值来使用该离子产生器减少该光罩上的静电荷,其中在减少该光罩上的静电荷的期间,该静电荷感测器位于该离子产生器下方;
通过一流体产生器将一流体流提供至一外壳中,其中该外壳容置该光罩;以及
通过一湿度感测器以分析该流体流中的相对湿度。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,其中减少该光罩上的该静电荷包含:
朝向该光罩提供一游离空气分子,其中该游离空气分子包含正空气离子、负空气离子或其的任意组合。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,还包含重复侦测该光罩上的该静电荷值以及根据侦测到的该静电荷值来减少该光罩上的该静电荷。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,其中减少该光罩上的该静电荷包含:
通过该流体产生器以增加容置该光罩的该外壳中的一湿度。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,还包含:
在减少该光罩上的该静电荷之后降低该湿度。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,还包含:
通过该流体产生器,在旋转该光罩之前调整该外壳中的一湿度。
7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,还包含:
在减少该光罩上的该静电荷之后停止旋转该光罩。
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,还包含:
在停止旋转该光罩之后停止侦测该光罩的该静电荷值。
9.一种光罩清洗方法,其特征在于,包含:
将一光罩置放于一外壳中的一光罩固持器上;
通过一旋转器来旋转该光罩;
通过至少一个静电荷感测器来侦测该光罩的一顶表面的一静电荷值;以及
当该静电荷值超过一预定范围时通过一离子产生器朝向该光罩的该顶表面施放一游离空气分子,其中在施放该游离空气分子的期间,该静电荷感测器位于该离子产生器下方;
通过一流体产生器将一流体流提供至该外壳中;以及
通过一湿度感测器以分析该流体流中的相对湿度。
10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,其中将该光罩置放于该光罩固持器上包含使该光罩与该光罩固持器上的一导电框接触,且该导电框接地。
11.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,其中该导电框与该光罩的一底部接触。
12.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,还包含:
通过该流体产生器调整该外壳中的压力状况。
13.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,其中施放该游离空气分子包含:
经由控制由该流体产生器产生的该流体流而导引该游离空气分子朝向该光罩的该顶表面上的一设定区域移动。
14.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,还包含:
在旋转该光罩之前经由该流体产生器提供的该流体流来调整一湿度。
15.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,其中侦测该静电荷值包含:
移动该静电荷感测器。
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G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
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