[发明专利]光罩清洗系统及方法

说明书

一种光罩清洗系统及方法。光罩清洗方法包含旋转光罩、提供清洗液体以清洗光罩、在旋转光罩期间侦测光罩上的静电荷值以及根据侦测到的静电荷值来减少光罩上的静电荷。

技术领域

本案是有关于一种清洗系统及方法，且特别是有关于一种光罩清洗系统及方法。

背景技术

随着半导体集成电路(Integrated Circuit/IC)工业不断朝着制造更复杂且更精密的半导体元件的方向发展，每一半导体中的电子部件的数量急剧增加，而同时其尺寸反而减小。此缩小过程实质上提供了多种益处，例如提高生产效率及降低制造成本。然而，制造的复杂性及难度的增加亦伴随这些益处。举例而言，通常用在半导体制造中的光微影制程的遮罩或光罩的微小缺陷亦可能导致半导体元件的效能的显著劣化。

发明内容

根据本案的一或多种实施方式，本案提供一种光罩清洗方法，其包含旋转光罩、提供清洗液体以清洗光罩、在旋转光罩期间侦测光罩上的静电荷值以及根据侦测到的静电荷值来减少光罩上的静电荷。

根据本案的一或多种实施方式，本案再提供一种光罩清洗方法，其包含将光罩置放于外壳中的光罩固持器上、通过旋转器来旋转光罩、通过至少一个静电荷感测器来侦测光罩的顶表面的静电荷值以及当静电荷值超过预定范围时通过离子产生器朝向光罩的顶表面施放游离空气分子。

根据本案的一或多种实施方式，本案另提供一种光罩清洗系统，其包含外壳、光罩固持器以及静电荷减少模块。光罩固持器在外壳中且配置以固持光罩。静电荷减少模块位于光罩固持器上方且包含离子产生器及至少一个静电荷感测器。离子产生器配置以将游离空气分子提供至光罩。至少一个静电荷感测器与离子产生器通讯且配置以侦测光罩上的静电荷值。

附图说明

当结合附图进行阅读时得以自以下详细描述最佳地理解本案的态样。应注意，根据工业上的标准实务，各种特征并未按比例绘制。实际上，为了论述清楚可任意地增大或减小各种特征的尺寸。

图1为根据本案的一些实施例的具有静电荷侦测及移除功能的光罩清洗系统的前视示意图；

图2A及图2B为根据本案的一些实施例的液体喷射器及静电荷减少模块的配置的前视示意图；

图3A至图3C为根据本案的一些实施例的导电框的形状的仰视示意图；

图4为根据本案的一些其他实施例的具有静电荷侦测及移除功能的光罩清洗系统的前视示意图；

图5为根据本案的一些实施例的用于控制具有静电荷侦测及移除功能的光罩清洗系统的方法的流程图。

具体实施方式

以下揭示内容提供用于实施所提供标的物的不同特征的许多不同实施例或实例。以下所述元件及配置的特定实例以简化本案。当然，这些仅为实例且并不意欲为限定性的。举例而言，在如下描述中第一特征在第二特征之上或在第二特征上的形成可包括其中第一及第二特征直接接触形成的实施例，且亦可包括其中额外特征可在第一及第二特征之间形成而使得第一及第二特征可不直接接触的实施例。另外，本案可在各种实例中重复元件符号及/或字母。此重复是出于简化及清楚目的，且其本身并不指示所论述的各种实施例及/或配置之间的关系。

另外，为了描述简单起见，可在本文中使用诸如“在……之下”、“在……下方”、“下方”、“在……上方”、“上方”以及其类似术语的空间相对术语，以描述如诸图中所说明的一个元件或特征相对于另一(其他)元件或特征的关系。除了诸图中所描绘的定向以外，所述空间相对术语意欲亦涵盖在使用中或操作中的元件的不同定向。设备可以其他方式定向(旋转90度或在其他定向上)，且本文中所使用的空间相对描述词可同样相应地作出解释。