[发明专利]用于形成光栅的装置

权利要求书

1.一种用于形成光栅的装置，其特征在于，所述装置包括基板、反射部件和位置移动部件；

所述基板与所述反射部件之间呈预设角度；

所述位置移动部件与基板连接，用于使基板相对于反射部件至少延基板上待形成的光栅的栅线方向移动；

其中，所述装置还包括控制部件、第一光栅和探测部件，所述控制部件被配置为：

在曝光前，获取准直激光通过所述第一光栅在空间中形成的第一干涉场信号，所述准直激光是具有偏振的激光经过扩束、针孔滤波和准直后形成的；

在曝光过程中，控制所述位置移动部件，以使得基板延栅线方向移动，并获取准直激光通过所述第一光栅在空间中形成的第二干涉场信号；

在所述第二干涉场信号相对于所述第一干涉场信号的位相变化超过第一阈值时，控制所述位置移动部件，以使所述基板延垂直于栅线的方向移动，以补偿所述曝光过程中基板沿栅线方向移动时产生的位相误差；

所述准直激光的上部分以所述预设角度入射到所述基板上，所述准直激光的下部分经过所述反射部件反射后以所述预设角度入射到所述基板上，所述准直激光的上部分和下部分在所述基板上形成干涉场信号，其中，所述准直激光的中心位于所述基板和所述反射部件的交线上，所述准直激光的中心线与所述交线所在的平面将所述准直激光分为所述准直激光的上部分和所述准直激光的下部分；

其中，所述装置还包括旋转部件，

所述反射部件垂直设置于所述旋转部件上，所述位置移动部件设置于所述旋转部件上方，所述基板垂直于所述旋转部件，所述基板和所述反射部件能够随所述旋转部件旋转。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述控制部件还被配置为控制所述位置移动部件，以使所述基板相对于反射部件移动。

3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述位置移动部件包括升降部，所述升降部用于使所述基板延栅线方向移动。

4.根据权利要求1或3所述的装置，其特征在于，所述位置移动部件包括平移部，所述平移部用于使所述基板延垂直于栅线的方向移动。

5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述第一光栅与基板连接，并跟随基板移动；

所述探测部件，用于接收准直激光通过所述第一光栅在空间中形成的干涉场信号，并将所述干涉场信号传递给所述控制部件。

6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述第一光栅与所述基板的之间呈大于0且小于第二阈值的预设角度。

7.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述第一光栅的周期与待曝光干涉场的周期的差值的绝对值小于或等于第三阈值，所述待曝光干涉场是准直激光入射所述基板与所述反射部件，在所述基板上形成的干涉场。